公开(公告)号：CN109997216A

公开(公告)日：2019-07-09

申请号：CN201780071606.6

申请日：2017-09-12

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 伊藤贤也 ,  上田浩彦

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/00 ,  B65G49/07 ,  C25D17/06 ,  H01L21/304 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明抑制基板(被处理物)的挠曲而稳定地输送被处理物。本发明提供一种处理装置。该处理装置具有：输送部，在被处理物的平面相对于水平绕输送方向轴倾斜的状态下输送被处理物；以及处理部，对被处理物的平面执行研磨及清洗中的至少一个。输送部具有：驱动部，构成为与被处理物的端部物理地接触来对被处理物施加输送方向的力；第一伯努利吸盘，与被处理物的平面对置配置；以及第二伯努利吸盘，与和被处理物的上述端部相反一侧的端部的端面对置配置。

公开(公告)号：CN303635152S

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201530452555.5

申请日：2015-11-13

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 石井游 ,  伊藤贤也 ,  上田浩彦

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为研磨装置用垫保持器。2.本外观设计产品例如如使用状态参考图所示，用于在化学机械研磨（CMP）装置中，在周侧面槽中安装研磨垫，固定在研磨工作台上而旋转，使研磨垫与工件（被研磨物）的侧面接触而使用。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定立体图1为最能表明设计要点的视图。

公开(公告)号：CN303635151S

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201530452450.X

申请日：2015-11-13

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 石井游 ,  伊藤贤也 ,  上田浩彦

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为研磨装置用工件保持器。2.本外观设计产品例如如使用状态参考图所示，用于在化学机械研磨（CMP）装置中，夹入工件（被研磨物）并安装在伺服马达上，使旋转的研磨工作台上的研磨垫的研磨面与工件的侧面接触而使用。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定立体图1为最能表明设计要点的视图。5.由于本外观设计产品的后视图与主视图对称，所以省略后视图。