含有紫外线吸收剂的防晒用化妆组合物

    公开(公告)号:CN102448433A

    公开(公告)日:2012-05-09

    申请号:CN201080024111.6

    申请日:2010-08-26

    CPC classification number: A61Q17/04 A61K8/4966

    Abstract: 本发明的防晒用化妆组合物含有由下述通式(1)表示的三嗪系化合物(a)及下述化学式(2)表示的三嗪系化合物(b)组成的紫外线吸收剂。下述通式(1)中,R1表示C1~12直链或支链烷基、C3~8环烷基、C3~8链烯基、C6~18芳基、C7~18烷基芳基或C7~18芳烷基,其中,这些基团可以被羟基、卤素原子或C1~12烷基或烷氧基取代,也可以被氧原子、硫原子、羰基、酯基、酰胺基或亚氨基中断。而且,所述的取代及中断也可以进行组合,R2表示C1~8烷基或C3~8链烯基。

    含有紫外线吸收剂的防晒用化妆组合物

    公开(公告)号:CN102448433B

    公开(公告)日:2014-06-18

    申请号:CN201080024111.6

    申请日:2010-08-26

    CPC classification number: A61Q17/04 A61K8/4966

    Abstract: 本发明的防晒用化妆组合物含有由下述通式(1)表示的三嗪系化合物(a)及下述化学式(2)表示的三嗪系化合物(b)组成的紫外线吸收剂。下述通式(1)中,R1表示C1~12直链或支链烷基、C3~8环烷基、C3~8链烯基、C6~18芳基、C7~18烷基芳基或C7~18芳烷基,其中,这些基团可以被羟基、卤素原子或C1~12烷基或烷氧基取代,也可以被氧原子、硫原子、羰基、酯基、酰胺基或亚氨基中断。而且,所述的取代及中断也可以进行组合,R2表示C1~8烷基或C3~8链烯基。

    光学薄膜
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100437164C

    公开(公告)日:2008-11-26

    申请号:CN200580015066.7

    申请日:2005-04-26

    CPC classification number: G02B5/223 C08K5/3492

    Abstract: 本发明提供由含有以下述通式(I)所示的三嗪化合物的树脂构成的光学薄膜,该光学薄膜是对波长380nm的紫外线的吸收能优异、渗出少的光学薄膜。通式(I)中,R1~R6各自独立地表示氢原子、羟基、选自碳原子数为18以下的烷基、烷氧基、二烷基氨基、烷基羰氧基、芳基、芳烷基、芳氧基、芳烷基氧基、芳基羰氧基中的有机基团。其中,这些有机基团的烷基部分可以被羟基、卤原子、氰基、硝基取代,可以插入氧原子、硫原子、羰基、酯基、酰胺基、酰亚胺基,可以具有双键,也可以组合上述取代、插入、双键。

    光学薄膜
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1957270A

    公开(公告)日:2007-05-02

    申请号:CN200580015066.7

    申请日:2005-04-26

    CPC classification number: G02B5/223 C08K5/3492

    Abstract: 本发明提供由含有以下述通式(I)所示的三嗪化合物的树脂构成的光学薄膜,该光学薄膜是对波长380nm的紫外线的吸收能优异、渗出少的光学薄膜。通式(I)中,R1~R6各自独立地表示氢原子、羟基、选自碳原子数为18以下的烷基、烷氧基、二烷基氨基、烷基羰氧基、芳基、芳烷基、芳氧基、芳烷基氧基、芳基羰氧基中的有机基团。其中,这些有机基团的烷基部分可以被羟基、卤原子、氰基、硝基取代,可以插入氧原子、硫原子、羰基、酯基、酰胺基、酰亚胺基,可以具有双键,也可以组合上述取代、插入、双键。

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