半导体装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110785836B

    公开(公告)日:2023-09-26

    申请号:CN201880042217.5

    申请日:2018-05-25

    Abstract: 在具有活性区域(1)和非活性区域(2)的半导体装置中,活性区域(1)采用如下结构:具备:具有包括第一、第二半导体层(12、13)的异质结构造的沟道形成层;具有MOS栅极电极(17)的栅极构造部;在第二半导体层(13)之上配置于夹着栅极构造部的两侧的源极电极(18)及漏极电极(19);配置于栅极构造部与漏极电极(19)之间的从漏极电极(19)离开了的位置、且未掺加杂质的第三半导体层(14);形成于第三半导体层(14)之上的p型的第四半导体层(20);以及与第四半导体层(20)接触的JG电极(21)。并且,JG电极(21)与源极电极(18)电连接而成为与该源极电极(18)相同的电位,并且仅配置于活性区域(1)内。

    半导体装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110785836A

    公开(公告)日:2020-02-11

    申请号:CN201880042217.5

    申请日:2018-05-25

    Abstract: 在具有活性区域(1)和非活性区域(2)的半导体装置中,活性区域(1)采用如下结构:具备:具有包括第一、第二半导体层(12、13)的异质结构造的沟道形成层;具有MOS栅极电极(17)的栅极构造部;在第二半导体层(13)之上配置于夹着栅极构造部的两侧的源极电极(18)及漏极电极(19);配置于栅极构造部与漏极电极(19)之间的从漏极电极(19)离开了的位置、且未掺加杂质的第三半导体层(14);形成于第三半导体层(14)之上的p型的第四半导体层(20);以及与第四半导体层(20)接触的JG电极(21)。并且,JG电极(21)与源极电极(18)电连接而成为与该源极电极(18)相同的电位,并且仅配置于活性区域(1)内。

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