荧光X射线分析装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118556183A

    公开(公告)日:2024-08-27

    申请号:CN202380015622.9

    申请日:2023-04-10

    Inventor: 川上裕幸

    Abstract: 本发明提供一种荧光X射线分析装置,其通过使薄板状样品的背面的状态为一样,不会产生因测定位置所致的测定条件的差异。一种荧光X射线分析装置具备:X射线源,其用1次X射线照射板状的样品的表面;探测器,其测定荧光X射线的强度;样品台,其载置样品;分析部,其在样品的表面的多个测定位置进行分析;背景校正盖,其具有沿样品台的外缘的一部分形状的外缘部分,与样品台的外侧相邻,并且表面配置在与样品台的表面大致同一平面上;移动机构,其使样品台移动,以便1次X射线照射到样品的表面的任意测定位置,其中,移动机构使背景校正盖随着样品台的移动而移动,当测定位置的样品背面无样品台时,使背景校正盖移动至测定位置的样品背面。

    荧光X射线分析装置、荧光X射线分析装置的漏水管理方法、信息存储介质以及程序

    公开(公告)号:CN119768682A

    公开(公告)日:2025-04-04

    申请号:CN202480003781.1

    申请日:2024-05-15

    Inventor: 川上裕幸

    Abstract: 本发明通过高精度且迅速地检测分光室内部的漏水,在发生漏水的情况下减轻荧光X射线分析装置的故障程度。一种荧光X射线分析装置,具有:高压电源,其向电子束源施加电压;X射线管,其用由所述电子束源产生的电子束照射靶而产生的1次X射线照射配置于分光室中的样品;循环水泵,其输送冷却所述靶的冷却水;真空泵,其排出所述分光室的空气;真空计,其测定所述分光室的压力;以及控制部,其根据所述真空计测定的压力和施加于所述电子束源的所述高压电源的电压这两者,判定所述冷却水泄漏到所述分光室的内部,并停止所述循环水泵的动作。

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