荧光X射线分析装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN117460950B

    公开(公告)日:2024-12-27

    申请号:CN202280040950.X

    申请日:2022-03-14

    Abstract: 本发明的X射线荧光分析装置包括使用FP方法的定量机构(13),该定量机构(13)进行:强度比装置灵敏度曲线制作步骤,其中,制作强度比装置灵敏度曲线,该强度比装置灵敏度曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的理论强度与基准主成分的理论强度之比的理论强度比之间的相关性;强度比换算步骤,其中,基于上述强度比装置灵敏度曲线,将上述测定强度比换算为理论强度标度,作为换算测定强度比;含有率比更新步骤,其中,基于换算测定强度比来更新含有率比,上述含有率比是对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比;以及含有率更新步骤,其中,基于最新的含有率比来更新各成分的含有率。

    荧光X射线分析装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117460950A

    公开(公告)日:2024-01-26

    申请号:CN202280040950.X

    申请日:2022-03-14

    Abstract: 本发明的X射线荧光分析装置包括使用FP方法的定量机构(13),该定量机构(13)进行:强度比装置灵敏度曲线制作步骤,其中,制作强度比装置灵敏度曲线,该强度比装置灵敏度曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的理论强度与基准主成分的理论强度之比的理论强度比之间的相关性;强度比换算步骤,其中,基于上述强度比装置灵敏度曲线,将上述测定强度比换算为理论强度标度,作为换算测定强度比;含有率比更新步骤,其中,基于换算测定强度比来更新含有率比,上述含有率比是对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比;以及含有率更新步骤,其中,基于最新的含有率比来更新各成分的含有率。

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