荧光X射线分析装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113748333B

    公开(公告)日:2022-07-12

    申请号:CN202080031348.0

    申请日:2020-06-04

    Abstract: 包括使用基本参数法的定量机构,定量机构对于各标准样品,使用测量强度、装置灵敏度常数和比例系数,该比例系数为,理论强度式中为了计算理论强度而与测量元素的质量分数相乘的比例系数,计算与测量元素相对应的成分的含量的定量值,对于各成分,输出表示标准值和定量值的相关性的图表和/或每个标准样品的标准值、定量值、定量误差和已采用的一组标准样品的定量值整体的准确度。

    荧光X射线分析装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113748333A

    公开(公告)日:2021-12-03

    申请号:CN202080031348.0

    申请日:2020-06-04

    Abstract: 包括使用范德曼参数法的定量机构,定量机构对于各标准样品,使用测量强度、装置灵敏度常数和比例系数,该比例系数为,理论强度式中为了计算理论强度而与测量元素的质量分数相乘的比例系数,计算与测量元素相对应的成分的含量的定量值,对于各成分,输出表示标准值和定量值的相关性的图表和/或每个标准样品的标准值、定量值、定量误差和已采用的一组标准样品的定量值整体的准确度。

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