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公开(公告)号:CN109311339B
公开(公告)日:2020-12-04
申请号:CN201780033381.5
申请日:2017-05-30
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 热敏记录介质,其包括基础材料和记录层,记录层包括光热转换材料并且被布置在基础材料上,其中所述热敏记录介质被配置以通过激光照射在热敏记录介质中记录信息,并且其中通过未记录信息的热敏记录介质观察的背景色调A和不经未记录信息的热敏记录介质直接观察的背景色调B之间的色差ΔE为20以下,并且在通过激光照射进行信息记录后经激光照射的记录层区域的膜厚度D相对于热敏记录介质的未记录信息的记录层的膜厚度C为140%以上但250%以下。
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公开(公告)号:CN109311339A
公开(公告)日:2019-02-05
申请号:CN201780033381.5
申请日:2017-05-30
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 热敏记录介质,其包括基础材料和记录层,记录层包括光热转换材料并且被布置在基础材料上,其中所述热敏记录介质被配置以通过激光照射在热敏记录介质中记录信息,并且其中通过未记录信息的热敏记录介质观察的背景色调A和不经未记录信息的热敏记录介质直接观察的背景色调B之间的色差ΔE为20以下,并且在通过激光照射进行信息记录后经激光照射的记录层区域的膜厚度D相对于热敏记录介质的未记录信息的记录层的膜厚度C为140%以上但250%以下。
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