-
公开(公告)号:CN103526276A
公开(公告)日:2014-01-22
申请号:CN201310426088.9
申请日:2006-05-18
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C25F3/24
Abstract: 本发明涉及不使用危险性高的硝酸等除去构成真空容器等真空处理装置的部件的表面附着的药液和金属等的附着物的方法。该方法是以构成真空处理装置的金属制部件作为被处理物的表面处理方法,其特征为,对上述被处理物的表面进行电解抛光、部分电解抛光、化学抛光、酸洗或电解酸洗后,利用在大于等于0.5重量%、小于3重量%的稀碱液中,添加羧酸或羧酸盐以使浓度达到大于等于0.5重量%、小于10重量%而得到的碱系螯合物溶液对上述被处理物的表面进行洗涤。
-
-
-
公开(公告)号:CN101031672A
公开(公告)日:2007-09-05
申请号:CN200680000873.6
申请日:2006-05-18
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明涉及不使用危险性高的硝酸等除去构成真空容器等真空处理装置的部件的表面附着的药液和金属等的附着物的方法。该方法是以构成真空处理装置的金属制部件作为被处理物的表面处理方法,其特征为,对上述被处理物的表面进行电解抛光、部分电解抛光、化学抛光、酸洗或电解酸洗后,利用在大于等于0.5重量%、小于3重量%的稀碱液中,添加羧酸或羧酸盐以使浓度达到大于等于0.5重量%、小于10重量%而得到的碱系螯合物溶液对上述被处理物的表面进行洗涤。
-
-
-