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公开(公告)号：CN104334771A
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201380026827.3
申请日：2013-04-16
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: H01J37/3426 , C25B1/00 , C25B9/08 , H01J37/3491
Abstract: 本发明提供一种无需进行电解液的废液处理，可得到与所需粒径一致的金属氢氧化物的高效批量生产金属氢氧化物的制造方法及ITO靶的制造方法。电解槽1内设置有层压疏水性的气体扩散层(20a)和亲水性的反应层(20b)而构成的气体扩散电极(20)，以在该电解槽内分区。在朝向分区后的电解槽的反应层的沉降槽(11)内放入电解液(S)，将铟(4)浸渍在电解液中。以气体扩散电极为阴极，以铟为阳极，在两电极间施加电压，且对朝向分区后的电解槽的气体扩散层的空气槽(10)内供氧并电解，使电解液中析出氢氧化铟。
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公开(公告)号：CN102027151A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200980115406.1
申请日：2009-04-27
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种水反应性Al复合材料，其在4NAl或5NAl中，以Al基准计，添加2～5wt％的In而成。使用该材料制造的水反应性Al膜及该Al膜的制造。在表面具备有该水反应性Al膜的成膜室用构成部件。
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公开(公告)号：CN102016099A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200980115407.6
申请日：2009-04-27
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C16/4404 , C22C21/00 , C23C4/04 , C23C4/067 , C23C4/08 , C23C4/123 , C23C4/129 , C23C4/131 , C23C14/564
Abstract: 本发明提供一种水反应性Al膜的制造方法，其将在4NAl或5NAl中以Al基准计添加了2～5wt％的In的材料熔融，以使得组成变得均匀，通过电弧喷镀法，作为喷涂气体使用Ar，对于基材表面进行喷镀而使其急冷凝固，由此形成在Al晶粒中In均匀地分散而成，另外在表面具备该水反应Al膜的成膜室用构成部件。
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公开(公告)号：CN102016102A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200980115456.X
申请日：2009-04-27
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C4/06 , C22C21/00 , C23C4/04 , C23C4/08 , C23C4/18 , C23C14/564 , C23C16/4404
Abstract: 本发明提供一种水反应性Al复合材料，其在选自杂质Cu量为40ppm以下的2NAl～5NAl中的Al中，以Al基准计，添加选自2～5wt％的In及0.7～1.4wt％的Bi的至少一种的金属而成。使用该材料制造的水反应性Al膜及该Al膜的制造。在表面具备有该水反应性Al膜的成膜室用构成部件。
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公开(公告)号：CN100476015C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200480002351.0
申请日：2004-01-22
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: H01L21/6704 , C23C16/4407
Abstract: 本发明内容为：作为使用成膜材料在衬底上生产薄膜的成膜装置用结构部件，即使是具有不易使附着膜破裂、脱落的表面构造的上述成膜结构部件，也可使其在清洗时迅速轻松地除去附着膜的结构部件及清洗方法。为了使清洗液能流入成膜装置用结构部件与附着膜(生产薄膜时产生的由成膜材料构成的)之间的界面，在结构部件上从里到外打了很多通孔。这时溶解附着膜就比只从表面溶解附着膜要快且容易得多。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102027151B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN200980115406.1
申请日：2009-04-27
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种水反应性Al复合材料，其在4NAl或5NAl中，以Al基准计，添加2～5wt％的In而成。使用该材料制造的水反应性Al膜及该Al膜的制造。在表面具备有该水反应性Al膜的成膜室用构成部件。
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公开(公告)号：CN102016100B
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN200980115409.5
申请日：2009-04-27
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C4/12 , C22C21/00 , C23C4/08 , C23C4/18 , C23C4/185 , C23C14/564 , C23C16/4404
Abstract: 本发明提供一种水反应性Al膜的制造方法，其将在4NAl或5NAl中以Al基准计添加了2～5wt％的In的材料熔融，以使得组成变得均匀，将该熔融材料通过火焰喷镀法对于基材表面进行喷镀而使其急冷凝固，由此制造在Al晶粒中In均匀地分散而成的水反应性Al膜。在表面具备有该水反应性Al膜的成膜室用构成部件。
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公开(公告)号：CN102016101B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200980115416.5
申请日：2009-04-27
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C4/06 , C22C21/00 , C23C4/08 , C23C4/18 , C23C14/564 , C23C16/4404 , C23C16/4407
Abstract: 本发明提供一种水反应性Al复合材料，其在4NAl或5NAl中，以Al基准计，添加0.8～1.4wt％的Bi及以与杂质Si量的总和计成为0.25～0.7wt％的量的Si而成。使用该材料制造的Al喷镀膜及该Al膜的制造。在表面具备有该Al喷镀膜的成膜室用构成部件。
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公开(公告)号：CN102016102B
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN200980115456.X
申请日：2009-04-27
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C4/06 , C22C21/00 , C23C4/04 , C23C4/08 , C23C4/18 , C23C14/564 , C23C16/4404
Abstract: 本发明提供一种水反应性Al复合材料，其在选自杂质Cu量为40ppm以下的2NAl～5NAl中的Al中，以Al基准计，添加选自2～5wt％的In及0.7～1.4wt％的Bi的至少一种的金属而成。使用该材料制造的水反应性Al膜及该Al膜的制造。在表面具备有该水反应性Al膜的成膜室用构成部件。
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公开(公告)号：CN102016100A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200980115409.5
申请日：2009-04-27
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C4/12 , C22C21/00 , C23C4/08 , C23C4/18 , C23C4/185 , C23C14/564 , C23C16/4404
Abstract: 本发明提供一种水反应性Al膜的制造方法，其将在4NAl或5NAl中以Al基准计添加了2～5wt％的In的材料熔融，以使得组成变得均匀，将该熔融材料通过火焰喷镀法对于基材表面进行喷镀而使其急冷凝固，由此制造在Al晶粒中In均匀地分散而成的水反应性Al膜。在表面具备有该水反应性Al膜的成膜室用构成部件。
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