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公开(公告)号：CN105209670A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201480026900.1
申请日：2014-03-27
Applicant: 株式会社杰希优
IPC: C25D21/10
CPC classification number: C25D21/10 , C25D17/001
Abstract: 本发明的目的在于提供一种镀敷装置，其无须在镀敷槽外设置循环泵，而可提高镀敷液的流速，并可使流速从镀敷槽的底部至液面相同，其结果，可遍及基板全部区域地，进行镀敷膜厚均匀且析出速度快速的镀敷，镀敷装置具备：收容镀敷液的镀敷槽；拆装自如地保持基板的基板保持件；与基板保持件所保持的基板相对置地配置的阳极；以与基板保持件平行的方式架设在镀敷槽的上方的轨道部；以及悬垂支持于该轨道部且可沿轨道部往返移动的桨叶，其特征在于；在该桨叶上垂直设置有以轴部为中心旋转自如或转动自如的叶片部。
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