碳化硅单晶体的制造装置

    公开(公告)号:CN102713028A

    公开(公告)日:2012-10-03

    申请号:CN201180006102.9

    申请日:2011-01-14

    Inventor: 关亘 近藤大辅

    CPC classification number: C30B29/36 C30B23/00 C30B23/06

    Abstract: 本发明提供一种碳化硅单晶体的制造装置。本发明的单晶体制造装置(1)包括坩埚(2),该坩埚(2)用于容纳含有碳化硅的晶种(11)和配设在与该晶种(11)相对一侧并用于上述晶种(11)的生长的升华用原料(10)。上述坩埚(2)包括:坩埚主体(7),其用于容纳上述升华用原料(10);以及盖体(8),其供上述晶种(11)配设;上述盖体(8)的与上述晶种(11)的径向中央侧相对应的中央区域处的厚度(T1)设定为大于上述盖体(8)的与比上述晶种(11)的径向中央侧靠径向外侧处相对应的周边区域处的厚度(T2)。

    碳化硅单晶的制造装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102388170A

    公开(公告)日:2012-03-21

    申请号:CN201080015739.X

    申请日:2010-03-31

    Inventor: 关亘 近藤大辅

    CPC classification number: C30B29/36 C30B23/06

    Abstract: 本发明提供一种碳化硅单晶的制造装置(1),其包括石墨制反应容器(10)和加热构件,该石墨制反应容器(10)是其呈筒状形成的反应容器主体(11)的上部开口(11b)被盖体(12)封闭,该加热构件由连续卷绕在该石墨制反应容器(10)的外周侧的单一的加热线圈构成,在底部(11a)容纳升华用原料(50),在反应容器的内表面侧(12a)安装晶种(60)。卷绕上述反应容器主体(11)的底部(11a)的下部线圈(31)和卷绕盖体(12)的上部线圈(32)的线圈间距(P1、P3)设定得小于卷绕反应容器主体(11)的高度方向上的中央部的中央部线圈(33)的线圈间距(P2)。

    碳化硅单晶的制造装置

    公开(公告)号:CN102459718A

    公开(公告)日:2012-05-16

    申请号:CN201080025247.9

    申请日:2010-04-23

    Inventor: 近藤大辅

    CPC classification number: C30B29/36 C30B23/00

    Abstract: 本发明提供一种碳化硅单晶的制造装置。本发明的单晶制造装置(1)包括:坩埚主体(5),其用于收纳升华用原料;盖体(9),其在与升华用原料相对的位置设有晶种支承部(7);引导构件(11),其自晶种支承部(7)的外周附近朝向升华用原料呈筒状延伸;以及绝热材料(21),其配置在晶种支承部(7)及引导构件(11)中的至少任意一者的外周侧,并且其导热率设定为低于单晶(27)的导热率;在加热升华用原料(3)及晶种而使单晶(27)生长时,利用绝热材料(21)使自升华用原料(3)流向晶种的热量(H)的流动汇集到晶种处。

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