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公开(公告)号：CN103938162A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201410018357.2
申请日：2014-01-16
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供蒸镀装置和该蒸镀装置所用的蒸发源，该蒸镀装置能够长时间进行稳定的蒸镀，该蒸发源能够稳定且大量地收入作为蒸镀材料的Al。本发明的蒸镀装置具备蒸镀基板的蒸发源（30）和收纳蒸发源（30）且基板被搬送的工艺腔室。蒸发源（30）具备坩埚（10），坩埚（10）具有固体的Al材料（2）被供给的材料收入部（11）、与材料收入部（11）相邻，加热从材料收入部（11）供给的Al材料（2）使其熔融并形成为熔液（1）的熔融部（12）、和与熔融部（12）相邻，加热从熔融部（12）供给的熔液（1）而产生蒸气的蒸发部（13）。
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公开(公告)号：CN103568614A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201310306105.5
申请日：2013-07-19
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明涉及一种激光转印方法和该方法使用的激光转印装置。本发明涉及一种有机EL面板，不使用蒸镀掩模形成有机EL面板的发光层的有机EL层。与在支承基板（20）上形成有有机EL膜（21）的金属施主基板（220）相对，配置具有有机EL元件形成部（110）的电路基板（101）。对金属施主基板（220）照射激光，使支承基板（20）内产生冲击波，在电路基板（101）侧形成有机EL层，实现高精细、大画面且制造成本低的有机EL面板。
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公开(公告)号：CN103031520A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201210304156.X
申请日：2012-08-24
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/24 , C23C14/12 , H01L21/203
Abstract: 本发明提供一种蒸发源及成膜装置。该成膜装置具有防止铝的爬升且难以产生破损的稳定的蒸发源。而且该成膜装置适合于使基板竖直并自横向进行蒸镀的纵向式蒸镀。所述蒸发源至少由坩埚和加热部构成，坩埚由相对于蒸镀材料的浸润性不同的材质制成的具有两种结构的坩埚，至少开口部由浸润性小的材料制成，被供给蒸镀材料的部分由浸润性大的材料制成。成膜装置具有如上所述的蒸发源。
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公开(公告)号：CN102732837A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210023615.7
申请日：2012-02-03
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明以低成本提供一种具有防止Al的向上蠕动或Al蒸气浸入而难以引起破损的蒸发源的蒸镀装置。该蒸镀装置在真空腔室内具有蒸镀源单元(26)，其中，上述蒸镀源单元(26)具有：收容蒸发材料(5)的坩埚(1)、安装于上述坩埚(1)的开口部的喷嘴(2)、包围上述坩埚(1)并收容加热器(3)的加热室(10)、和固定件(7)，在上述坩埚(1)的内壁和上述加热室(10)之间具有切口(12)，该切口(12)阻止在上述坩埚(1)中熔融了的上述蒸发材料(5)或上述蒸发材料(5)的蒸气侵入到上述加热室(10)。
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公开(公告)号：CN102732836A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201110442780.1
申请日：2011-12-27
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置及成膜装置，该真空蒸镀装置及成膜装置在大型基板上高速地形成膜厚均匀的有机EL上部电极用的铝金属薄膜，能够长时间连续运行。使用陶瓷制的坩埚，防止铝的向上蠕动，使用在横向上操作蒸发源列(3-2)进行蒸镀的机构，该蒸发源列(3-2)在纵向上排列了至少2个以上在相同方向上按规定角度倾斜了的蒸发源(3-1)，据此，能够相对于大型化的纵向设置的基板(1-1)高速地形成有机EL上部电极用金属薄膜，能够进行长时间的连续成膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103710667A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201310339461.7
申请日：2013-08-06
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明是提供一种蒸发源、真空蒸镀装置以及有机EL显示装置制造方法，使用能够降低热辐射、能够节电化的蒸发源，能够与大型基板对应，高速形成以铝材料为主的金属薄膜，连续成膜。作为解决本发明课题的方法涉及在使用陶瓷制的坩锅的蒸发源中，通过使夹着凸缘部那样设置热反射构件，有效地阻断沿凸缘部流出的热。其结果是能够用少的电力有效地加热坩锅，另外能够防止凸缘部的温度上升，防止攀缘。
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公开(公告)号：CN103374700A
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201310124641.3
申请日：2013-04-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置。将多个线状蒸发源相对于成膜方向配置成多级，能够在去路和回路中不改变成膜顺序地进行共蒸镀。在基板上成膜蒸镀材料的真空蒸镀装置中，具有以相对于成膜方向为对称的方式配置有多个线状蒸发源的蒸发源组，上述蒸发源组相对于上述基板向第一方向移动并对上述基板成膜后，相对于上述基板向与上述第一方向相反的方向即第二方向移动并对上述基板成膜。
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公开(公告)号：CN103361610A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310053508.3
申请日：2013-02-19
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/26
Abstract: 本发明提供一种即使蒸镀材料进入蒸发源内部，也防止膜质的劣化，不会对连续运转、维护产生障碍的蒸发源以及真空蒸镀装置。蒸发源以及真空蒸镀装置由具有用于将加热被封入的蒸镀材料而蒸发出的蒸镀材料排放的喷嘴的坩埚、用于加热该坩埚的加热构件、配置在上述坩埚和上述加热构件的周边的隔热构件构成，在上述隔热构件和坩埚或者加热构件之间设置由该加热构件保持为低温的浮游蒸镀物回收构件，且在该浮游蒸镀物回收构件和上述坩埚以及上述加热构件之间设置隔热构件。
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公开(公告)号：CN103305796A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201310054787.5
申请日：2013-02-20
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供能在大型基板上快速地形成膜厚均匀且有机EL上部电极用的铝金属薄膜，并能长时间连续运转的真空蒸镀装置及成膜装置。通过使用陶瓷制的坩埚防止铝的攀爬，并使用在横向上操作沿纵向排列有在相同方向上以规定的角度倾斜的蒸发源（3-1）的蒸发源列（3-2）并进行蒸镀的机构，能够相对于大型的纵置基板（1-1）快速形成有机EL上部电极用金属薄膜，并使用材料供给机进行长时间的连续成膜。
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公开(公告)号：CN102676999A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210058800.X
申请日：2012-03-08
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种蒸发源和蒸镀装置，其发明目的在于隔断坩埚的辐射热而且不在喷嘴产生堵塞，本发明的蒸发源(1)具有喷嘴(12)、反射器(6)以及罩构件(8)，该喷嘴(12)按从对蒸镀材料(M)进行加热而使其蒸发的坩埚(5)突出的方式设置，朝基板(2)喷射蒸发了的蒸镀材料(M)；该反射器(6)具有并列地配置的多个金属板(15)，使得这些多个金属板(15)中的最接近基板(2)的金属板(15)设在比喷嘴(12)的喷嘴前端面(13)更接近基板(2)的位置；该罩构件(8)与构成反射器(6)的多个金属板(15)中的一部分一体地构成，将喷嘴(12)与反射器(6)之间闭塞。
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