公开(公告)号：CN1573453B

公开(公告)日：2010-04-07

申请号：CN200410048780.3

申请日：2004-06-18

Applicant: 株式会社日立显示器

Inventor： 野村秀次 ,  田中政博 ,  落合孝洋

IPC: G02F1/133 ,  H01L21/336

CPC classification number: H01L29/66757 ,  H01L21/76804 ,  H01L27/146 ,  H01L29/41733 ,  H01L29/66765 ,  H01L2224/4847

Abstract: 本发明公开了一种显示装置及其制造方法。本发明的显示装置，在硅氧化膜、硅氮化膜和硅氧化膜的顺次叠层体上形成接触孔的情况下，使该接触孔的侧壁的锥度形成理想的形状。在具有第1硅氧化膜，层叠在上述第1硅氧化膜上的硅氮化膜，层叠在上述硅氮化膜上的第2硅氧化膜，贯穿包含上述第1硅氧化膜、上述硅氮化膜和上述第2硅氧化膜的至少3层的接触孔的显示装置中，上述接触孔，在设上述硅氮化膜的膜厚为d2，上述第2硅氧化膜的膜厚为d3时，d2＜d3，而且，具有没有缩颈的锥度形状。

公开(公告)号：CN1573453A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410048780.3

申请日：2004-06-18

Applicant: 株式会社日立显示器

Inventor： 野村秀次 ,  田中政博 ,  落合孝洋

IPC: G02F1/133

CPC classification number: H01L29/66757 ,  H01L21/76804 ,  H01L27/146 ,  H01L29/41733 ,  H01L29/66765 ,  H01L2224/4847

Abstract: 本发明公开了一种显示装置及其制造方法。本发明的显示装置，在硅氧化膜、硅氮化膜和硅氧化膜的顺次叠层体上形成接触孔的情况下，使该接触孔的侧壁的锥度形成理想的形状。在具有第1硅氧化膜，层叠在上述第1硅氧化膜上的硅氮化膜，层叠在上述硅氮化膜上的第2硅氧化膜，贯穿包含上述第1硅氧化膜、上述硅氮化膜和上述第2硅氧化膜的至少3层的接触孔的显示装置中，上述接触孔，在设上述硅氮化膜的膜厚为d2，上述第2硅氧化膜的膜厚为d3时，d2＜d3，而且，具有没有缩颈的锥度形状。