公开(公告)号：CN102019254A

公开(公告)日：2011-04-20

申请号：CN201010261161.8

申请日：2010-08-19

Applicant: 株式会社日立工业设备技术

Inventor： 圆山勇 ,  川北英之 ,  石丸康治 ,  小菅忠男 ,  渡边健

IPC: B05C5/00 ,  B05C11/00 ,  B05B13/04 ,  B05B15/08 ,  B05B15/00 ,  G02F1/1339

Abstract: 本发明涉及涂敷装置及其涂敷位置修正方法，修正门形架、其涂敷头的位置偏差。在基台(1)上分别设有跨越基板载置台(8)的可在X轴方向移动的门形架(3L、3R)，在各门形架上设有可在Y轴方向移动的涂敷头(5La～5Lc、5Ra～5Rc)。在基板载置台(8)的门形架(3L、3R)侧分别设有模拟用玻璃基板(10a、10b)，由门形架(3L、3R)的涂敷头(5La～5Lc、5Ra～5Rc)在模拟用玻璃基板(10a、10b)上描绘浆料记号，根据这些记号的位置检测出涂敷头(5La～5Lc)间的、涂敷头(5Ra～5Rc)间的XY轴方向的位置偏差。在基板载置台(8)中央部设置基准位置记号(9)，通过检测门形架(3L、3R)朝该基准位置记号(9)的移动距离，检测出这些门形架的X轴方向的位置偏差。

公开(公告)号：CN102019254B

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：CN201010261161.8

申请日：2010-08-19

Applicant: 株式会社日立工业设备技术

Inventor： 圆山勇 ,  川北英之 ,  石丸康治 ,  小菅忠男 ,  渡边健

IPC: B05C5/00 ,  B05C11/00 ,  B05B13/04 ,  B05B15/08 ,  B05B15/00 ,  G02F1/1339

Abstract: 本发明涉及涂敷装置及其涂敷位置修正方法，修正门形架、其涂敷头的位置偏差。在基台(1)上分别设有跨越基板载置台(8)的可在X轴方向移动的门形架(3L、3R)，在各门形架上设有可在Y轴方向移动的涂敷头(5La～5Lc、5Ra～5Rc)。在基板载置台(8)的门形架(3L、3R)侧分别设有模拟用玻璃基板(10a、10b)，由门形架(3L、3R)的涂敷头(5La～5Lc、5Ra～5Rc)在模拟用玻璃基板(10a、10b)上描绘浆料记号，根据这些记号的位置检测出涂敷头(5La～5Lc)间的、涂敷头(5Ra～5Rc)间的XY轴方向的位置偏差。在基板载置台(8)中央部设置基准位置记号(9)，通过检测门形架(3L、3R)朝该基准位置记号(9)的移动距离，检测出这些门形架的X轴方向的位置偏差。