公开(公告)号：CN105208929A

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：CN201480027004.7

申请日：2014-05-27

Applicant: 株式会社日立医疗器械

Inventor： 堀知新 ,  阿部充志

IPC: A61B5/055 ,  G01R33/381

CPC classification number: G01R33/3806 ,  A61B5/055 ,  G01R33/3815

Abstract: 磁铁装置(2)具备：对置地配置的一对大致圆盘状的磁极(4U)；侧视呈C字或U字形状且该C字或U字形状的两端部与磁极(4U)接近地配置的磁轭(3)，磁轭(3)具有与磁极(4U)接近地对置的磁轭侧对置部(15U)，磁轭侧对置部(15U)具有：包含磁轭(3)的铅垂对称面(α)的一部分的中央带区域(15b)；从铅垂对称面(α)离开而位于中央带区域(15b)两侧的两侧带区域(15c)，在磁轭侧对置部(15U)的从与磁极(4U)接近地对置的磁轭侧对置表面(15a)起的高度(W3)上，中央带区域(15b、W3b)比两侧带区域(15c、W3c)高。磁轭侧对置部(15U)的从磁轭侧对置表面(15a)起的高度(W3)随着从铅垂对称面(α)远离而广义单调减小并且其最大值和最小值不同。