制造半导体集成电路器件的方法

    公开(公告)号:CN1123956A

    公开(公告)日:1996-06-05

    申请号:CN95106069.4

    申请日:1995-05-12

    Abstract: 当对具有耐熔件的FPGA(现场可编程门阵列)进行编程时,每个耐熔件都由依在半导体基片的主表面上的次序顺序构成的TiW下电极、非晶硅构成的绝缘薄膜以及TiW上电极构成,将DC电压加在用于编程的耐熔件上,然后将AC电压加在耐熔件上,以便AC电流通过耐熔件,使得耐熔件的导通部分的机械强度提高。

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