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发明授权
粒子射线照射装置有权转让

公开(公告)号：CN106163616B

公开(公告)日：2019-02-26

申请号：CN201480077893.8

申请日：2014-04-10

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 坂本裕介 , 蒲越虎 , 原田久 , 本田泰三

IPC: A61N5/10

Abstract: 粒子射线照射装置(50)对一个照射位置(12)多次照射粒子射线(10)。存储部(3)存储各次应照射的剂量(分割目标剂量)。剂量监视器(5)测量照射至照射位置(12)的粒子射线(10)的剂量。第1次照射时，利用剂量监视器(5)测量的剂量到达分割目标剂量后，控制部(4)发出遮断信号(15)。剂量监视器(5)测量从发出遮断信号(15)后至实际遮断粒子射线(10)的期间内照射的剂量(过剩剂量)(14)。然后设为校正剂量值＝分割目标剂量‑过剩剂量。也可以改设为校正剂量值＝分割目标剂量‑过剩剂量预测值。第2次照射时，利用剂量监视器(5)测量的剂量到达校正剂量值后，控制部(4)发出遮断信号(15)。通过该校正，减少点扫描法中超出所计划的剂量的照射剂量。

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