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公开(公告)号:CN110935108A
公开(公告)日:2020-03-31
申请号:CN201910441112.3
申请日:2019-05-24
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61N5/10
Abstract: 本发明提供提高了扩充性的粒子束治疗系统。粒子束治疗系统(1)具备:具有第一楼层(51)和第二楼层(53S、53V)的建筑物;设于第一楼层并产生粒子束的粒子束产生装置(2);用于从粒子束产生装置向第一治疗室内的第一照射装置输送粒子束的第一输送系统(3(1));以及从第一输送系统分支并用于经由第二楼层向第二治疗室的第二照射装置输送粒子束的第二输送系统(3(2)),第二输送系统具有使粒子束向与粒子束产生装置的设置面不同的第二楼层的方向偏转的第一偏转电磁铁(32(2)),建筑物(5)具有屏蔽第一楼层与第二楼层的屏蔽壁(55),在相对于粒子束的前进方向比第一偏转电磁铁靠后方的位置贯通屏蔽壁地设置第二输送系统。