公开(公告)号：CN1123466A

公开(公告)日：1996-05-29

申请号：CN95116667.0

申请日：1995-08-24

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 小森谷进 ,  町田贵裕 ,  国吉伸治 ,  入来信行 ,  前岛央 ,  小林正道

IPC: H01L21/30 ,  G03F7/20 ,  H01L21/77

CPC classification number: G03F9/70

Abstract: 一种能够产生具有良好反差和对称性的位置检测信号的目标图形，该目标图形由光波长为λ、数值孔径为NA且局部相干为σ的位置检测光学系统检测，由具有隆起的点部或线部1a和设于1a周围的重复台阶部分1b构成，隆起宽度小于0.5λ(1+σ)NA，1b的步距小于λ(1+σ)/NA且宽度小于0.5λ(1+σ)/NA。另一种目标图形由点部或线部2a及重复台阶部分2b构成，2a的凹下宽度小于0.5λ(1+σ)/NA，而2b在2a周围且步距小于λ(1+σ)/NA而宽度小于0.5λ(1+σ)/NA。