Patent search ap:("株式会社日立制作所") AND inv:"片寄雅" Page 1

1.

发明公开
粒子线照射系统及粒子线照射设施审中-实审转让

公开(公告)号：CN114269429A

公开(公告)日：2022-04-01

申请号：CN202080059278.X

申请日：2020-06-25

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 泷泽贤一 , 西内秀晶 , 片寄雅

IPC: A61N5/10

Abstract: 本发明减小粒子线治疗系统的设置面积。本公开的一方案的粒子线照射系统具备：加速器，其设置于地面，且对带电粒子束进行加速；输送装置，其输送从加速器射出的带电粒子束；照射装置，其向照射对象照射由输送装置输送来的带电粒子束；以及机架，其设置于地面，且安装有照射装置。另外，机架具有：旋转体，其使照射装置绕照射对象旋转；以及支撑装置，其在使旋转体的向地面的投影面和加速器或输送装置的向地面的投影面至少一部分重叠的位置从地面支撑旋转体。

Patent Agency Ranking