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发明公开
粒子线治疗系统、照射控制装置以及照射控制方法审中-实审转让

公开(公告)号：CN116099134A

公开(公告)日：2023-05-12

申请号：CN202211044303.4

申请日：2022-08-30

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 三好拓人 , 野村拓也 , 伊藤友纪 , 丰田高士 , 山田贵启

IPC: A61N5/10

Abstract: 本公开涉及粒子线治疗系统、照射控制装置以及照射控制方法。提供一种能够更准确地控制向被检者照射的粒子射束的剂量的粒子线治疗系统。剂量监控器(202)测量射束(160)的剂量。位置监控器(203)测量射束(160)的射束尺寸。照射控制装置(108)根据射束(160)的剂量以及射束尺寸，计算剂量监控器(202)的测量特性，根据该测量特性以及剂量，控制射束(160)向患者(150)的照射。

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