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公开(公告)号:CN101434481A
公开(公告)日:2009-05-20
申请号:CN200810181440.6
申请日:2008-11-13
Applicant: 株式会社巴川制纸所
IPC: C04B33/00
Abstract: 本发明的粘土分散液的特征在于,是通过以下方法得到的,向分散有溶胀性粘土的以水为主成分的液体中,投入有机鎓离子,使其与该溶胀性粘土表面存在的亲水性阳离子进行离子交换,得到有机修饰粘土后,除去进行了交换的亲水性阳离子,将所述含有水分的状态的有机修饰粘土添加到极性有机溶剂中,由此得到分散有有机修饰粘土的粘土分散液。另外,本发明的粘土薄膜是由该有机修饰粘土形成的。
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公开(公告)号:CN101434481B
公开(公告)日:2013-08-14
申请号:CN200810181440.6
申请日:2008-11-13
Applicant: 株式会社巴川制纸所
Abstract: 本发明的粘土分散液的特征在于,是通过以下方法得到的,向分散有溶胀性粘土的以水为主成分的液体中,投入有机鎓离子,使其与该溶胀性粘土表面存在的亲水性阳离子进行离子交换,得到有机修饰粘土后,除去进行了交换的亲水性阳离子,将所述含有水分的状态的有机修饰粘土添加到极性有机溶剂中,由此得到分散有有机修饰粘土的粘土分散液。另外,本发明的粘土薄膜是由该有机修饰粘土形成的。
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公开(公告)号:CN101268013B
公开(公告)日:2011-02-16
申请号:CN200680034452.5
申请日:2006-09-19
Applicant: 株式会社巴川制纸所 , 独立行政法人产业技术综合研究所
IPC: C01B33/40 , G02F1/1333 , H01L51/50 , H05B33/02
CPC classification number: B28B1/30 , G02F2001/133302 , H01L51/5237 , Y10T428/24413
Abstract: 本发明提供一种制造具有足以用作液晶或有机EL显示器用膜基板的表面平坦性的粘土薄膜的方法。本发明的粘土薄膜制造方法是由粘土或粘土和添加剂构成、并具有粘土粒子取向并层合形成的结构的粘土薄膜的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括以下工序:使粘土或粘土和添加剂分散在由水、有机溶剂、或水和有机溶剂的混合溶剂组成的分散介质中,制作粘土糊料的糊料制作工序;将所述粘土糊料涂布在基材上形成薄膜的涂布工序;将所述薄膜平坦化的平坦化工序;从所述薄膜中除去水、有机溶剂、或水和有机溶剂的干燥工序;从所述基材上剥离所述薄膜的剥离工序。粘土薄膜的表面粗糙度Ra为100nm以下。
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公开(公告)号:CN101267940B
公开(公告)日:2012-09-12
申请号:CN200680034442.1
申请日:2006-09-19
Applicant: 株式会社巴川制纸所 , 独立行政法人产业技术综合研究所
IPC: B32B18/00 , C23C14/06 , C23C16/42 , G02F1/1333 , G09F9/30 , H01L27/32 , H01L51/50 , H05B33/02 , H05B33/10 , H05B33/22
Abstract: 本发明提供一种提高了表面平坦性和阻气性的粘土薄膜基板、及使用该粘土薄膜基板的显示元件。粘土薄膜基板在具有粘土粒子取向并层合形成的结构的粘土薄膜11的至少一侧表面上层合有阻气无机物质层12。另外,其他粘土薄膜基板中,在具有粘土粒子取向并层合形成的结构的粘土薄膜的至少一侧表面上层合有平坦化无机物质层或有机聚合物层,在上述平坦化无机物质层或有机聚合物层上层合有阻气无机物质层。阻气无机物质层由含氮的氧化硅膜构成,平坦化无机物质层由含碳的氧化硅膜构成。上述粘土薄膜基板可以优选用作场致发光显示元件及液晶显示元件的基板。
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公开(公告)号:CN101268013A
公开(公告)日:2008-09-17
申请号:CN200680034452.5
申请日:2006-09-19
Applicant: 株式会社巴川制纸所 , 独立行政法人产业技术综合研究所
IPC: C01B33/40 , G02F1/1333 , H01L51/50 , H05B33/02
CPC classification number: B28B1/30 , G02F2001/133302 , H01L51/5237 , Y10T428/24413
Abstract: 本发明提供一种制造具有足以用作液晶或有机EL显示器用膜基板的表面平坦性的粘土薄膜的方法。本发明的粘土薄膜制造方法是由粘土或粘土和添加剂构成、并具有粘土粒子取向并层合形成的结构的粘土薄膜的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括以下工序:使粘土或粘土和添加剂分散在由水、有机溶剂、或水和有机溶剂的混合溶剂组成的分散介质中,制作粘土糊料的糊料制作工序;将所述粘土糊料涂布在基材上形成薄膜的涂布工序;将所述薄膜平坦化的平坦化工序;从所述薄膜中除去水、有机溶剂、或水和有机溶剂的干燥工序;从所述基材上剥离所述薄膜的剥离工序。粘土薄膜的表面粗糙度Ra为100nm以下。
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公开(公告)号:CN101267940A
公开(公告)日:2008-09-17
申请号:CN200680034442.1
申请日:2006-09-19
Applicant: 株式会社巴川制纸所 , 独立行政法人产业技术综合研究所
IPC: B32B18/00 , C23C14/06 , C23C16/42 , G02F1/1333 , G09F9/30 , H01L27/32 , H01L51/50 , H05B33/02 , H05B33/10 , H05B33/22
Abstract: 本发明提供一种提高了表面平坦性和阻气性的粘土薄膜基板、及使用该粘土薄膜基板的显示元件。粘土薄膜基板在具有粘土粒子取向并层合形成的结构的粘土薄膜11的至少一侧表面上层合有阻气无机物质层12。另外,其他粘土薄膜基板中,在具有粘土粒子取向并层合形成的结构的粘土薄膜的至少一侧表面上层合有平坦化无机物质层或有机聚合物层,在上述平坦化无机物质层或有机聚合物层上层合有阻气无机物质层。阻气无机物质层由含氮的氧化硅膜构成,平坦化无机物质层由含碳的氧化硅膜构成。上述粘土薄膜基板可以优选用作场致发光显示元件及液晶显示元件的基板。
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