公开(公告)号：CN105204296A

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：CN201510591955.3

申请日：2005-08-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大和壮一 ,  长坂博之 ,  菅原龙

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733

Abstract: 本发明提供一种曝光装置的控制方法。一种曝光装置的控制方法，透过液浸区域的液体将基板曝光，包含以下步骤：通过从供应口供应液体，并且将从上述供应口所供应的液体从设置有多孔质的回收口回收，以在最靠近投影光学系统的像面的第1光学元件之下形成液浸区域；判断上述液浸区域是否为期望状态；及以边抑制上述液浸区域的液体从第1载台与第2载台的间隙流出，边在上述投影光学系统的像面侧的光路空间填满上述液体的状态下在上述第1载台上与上述第2载台上之间移动上述液浸区域的方式，在上述第1载台与上述第2载台接近的状态下，在上述投影光学系统的像面侧一起移动上述第1载台与上述第2载台。

公开(公告)号：CN102998910A

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN201210468689.1

申请日：2005-08-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大和壮一 ,  长坂博之 ,  菅原龙

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733

Abstract: 本发明提供一种曝光装置的控制方法、曝光方法及组件制造方法。提供曝光装置（EX），其具备投影光学系统（PL），该投影光学系统（PL）具有最靠近投影光学系统（PL）的像面的第1光学元件（LS1）。曝光装置（EX）具备：第1液浸机构（1），用以在设置于投影光学系统（PL）像面侧的透明构件（64）的上面（65）与第1光学元件（LS1）之间形成第1液体（LQ1）的第1液浸区域（LR1）；及观察装置（60），用以观察第1液浸区域（LR1）的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。

公开(公告)号：CN105204296B

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201510591955.3

申请日：2005-08-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大和壮一 ,  长坂博之 ,  菅原龙

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733

Abstract: 本发明提供一种曝光装置的控制方法。一种曝光装置的控制方法，透过液浸区域的液体将基板曝光，包含以下步骤：通过从供应口供应液体，并且将从上述供应口所供应的液体从设置有多孔质的回收口回收，以在最靠近投影光学系统的像面的第1光学元件之下形成液浸区域；判断上述液浸区域是否为期望状态；及以边抑制上述液浸区域的液体从第1载台与第2载台的间隙流出，边在上述投影光学系统的像面侧的光路空间填满上述液体的状态下在上述第1载台上与上述第2载台上之间移动上述液浸区域的方式，在上述第1载台与上述第2载台接近的状态下，在上述投影光学系统的像面侧一起移动上述第1载台与上述第2载台。

公开(公告)号：CN101799636B

公开(公告)日：2013-04-10

申请号：CN201010129961.4

申请日：2005-08-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大和壮一 ,  长坂博之 ,  菅原龙

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733

Abstract: 提供曝光装置(EX)，其具备投影光学系统(PL)，该投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第1光学元件(LS1)。曝光装置(EX)具备：第1液浸机构(1)，用以在设置于投影光学系统(PL)像面侧的透明构件(64)的上面(65)与第1光学元件(LS1)之间形成第1液体(LQ1)的第1液浸区域(LR1)；及观察装置(60)，用以观察第1液浸区域(LR1)的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。

公开(公告)号：CN100485865C

公开(公告)日：2009-05-06

申请号：CN200580041276.3

申请日：2005-11-30

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 冈田尚也 ,  菅原龙

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其是经由投影光学系统(PL)向衬底(P)照射曝光用光而使衬底(P)曝光的曝光装置，投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第一光学元件(LS1)、次于第一光学元件(LS1)地靠近像面的第二光学元件(LS2)。曝光装置具备第二回收口(42)，其设于比第二光学元件(LS2)的底面(T3)高的位置，回收填充于第一光学元件(LS1)的顶面(T2)与第二光学元件(LS2)的底面(T3)之间的第二空间(K2)的第二液体(LQ2)。

公开(公告)号：CN101002299A

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN200580023601.3

申请日：2005-08-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大和壮一 ,  长坂博之 ,  菅原龙

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 提供曝光装置(EX)，其具备投影光学系统(PL)，该投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第1光学元件(LS1)。曝光装置(EX)具备：第1液浸机构(1)，用以在设置于投影光学系统(PL)像面侧的透明构件(64)的上面(65)与第1光学元件(LS1)之间形成第1液体(LQ1)的第1液浸区域(LR1)；及观察装置(60)，用以观察第1液浸区域(LR1)的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。

公开(公告)号：CN101799636A

公开(公告)日：2010-08-11

申请号：CN201010129961.4

申请日：2005-08-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大和壮一 ,  长坂博之 ,  菅原龙

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733

Abstract: 提供曝光装置(EX)，其具备投影光学系统(PL)，该投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第1光学元件(LS1)。曝光装置(EX)具备：第1液浸机构(1)，用以在设置于投影光学系统(PL)像面侧的透明构件(64)的上面(65)与第1光学元件(LS1)之间形成第1液体(LQ1)的第1液浸区域(LR1)；及观察装置(60)，用以观察第1液浸区域(LR1)的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。

公开(公告)号：CN101002299B

公开(公告)日：2010-05-05

申请号：CN200580023601.3

申请日：2005-08-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大和壮一 ,  长坂博之 ,  菅原龙

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 提供曝光装置(EX)，其具备投影光学系统(PL)，该投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第1光学元件(LS1)。曝光装置(EX)具备：第1液浸机构(1)，用以在设置于投影光学系统(PL)像面侧的透明构件(64)的上面(65)与第1光学元件(LS1)之间形成第1液体(LQ1)的第1液浸区域(LR1)；及观察装置(60)，用以观察第1液浸区域(LR1)的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。

公开(公告)号：CN101069266A

公开(公告)日：2007-11-07

申请号：CN200580041276.3

申请日：2005-11-30

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 冈田尚也 ,  菅原龙

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其是经由投影光学系统(PL)向衬底(P)照射曝光用光而使衬底(P)曝光的曝光装置，投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第一光学元件(LS1)、次于第一光学元件(LS1)地靠近像面的第二光学元件(LS2)。曝光装置具备第二回收口(42)，其设于比第二光学元件(LS2)的底面(T3)高的位置，回收填充于第一光学元件(LS1)的顶面(T2)与第二光学元件(LS2)的底面(T3)之间的第二空间(K2)的第二液体(LQ2)。