公开(公告)号：CN117616338A

公开(公告)日：2024-02-27

申请号：CN202280045554.6

申请日：2022-07-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  水野恭志 ,  中岛利治 ,  川户聪

IPC: G03F7/20

Abstract: 图案曝光装置(EX)包括：空间光调制元件(10)，其具有基于描绘数据被选择性驱动的多个微镜；照明单元(ILU)，其以规定的入射角向空间光调制元件照射照明光；以及投影单元(PLU)，其使来自空间光调制元件的被选择的打开状态的微镜的反射光入射并投影到基板上，图案曝光装置(EX)将与描绘数据对应的图案投影曝光到基板上，照明单元包括：聚光光学构件，其将来自成为照明光的光源的规定形状的面光源的光聚光并倾斜照射到空间光调制元件上，且沿着相对于投影单元的光轴以入射角倾斜的光轴来配置，使面光源与投影单元的光瞳光学共轭；以及修正光学构件，其使面光源的轮廓的形状变形，以对由来自空间光调制元件的打开状态的微镜的反射光在投影单元的光瞳上形成的面光源的像的轮廓根据入射角而变形为椭圆状的情况进行修正。

公开(公告)号：CN119585678A

公开(公告)日：2025-03-07

申请号：CN202280098506.3

申请日：2022-08-18

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 岩永正也 ,  川户聪

IPC: G03F7/20

Abstract: 光源单元具备：光源阵列，在二维平面上排列多个具有出射光的发光部的光源元件；以及放大光学系统，形成所述光源元件各者的所述发光部的放大像，所述放大光学系统是以倍率M放大投影的两侧远心光学系统，在将所述光源元件的排列间距设为p，将所述发光部的发光面的一边的长度设为a，将自所述发光部出射的所述光中放射强度高于朗伯放射的光的最大出射角度设为α，将自所述放大光学系统出射的光的最大出射角度设为θ的情形时，所述倍率M满足#imgabs0#的条件。

公开(公告)号：CN119585677A

公开(公告)日：2025-03-07

申请号：CN202280098378.2

申请日：2022-08-18

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 岩永正也 ,  川户聪 ,  大川智之 ,  中臣聪

IPC: G03F7/20

Abstract: 照明单元具备：第一光源阵列(20A)，排列有多个第一光源元件，所述第一光源元件具有第一发光部，所述第一发光部出射具有第一波长特性的光；第一放大光学系统(30A)，形成所述第一光源元件各者的所述第一发光部的放大像；第一光学系统(81A)，由来自所述第一放大光学系统的光入射；第二光源阵列(20B)，排列有多个第二光源元件，所述第二光源元件具有第二发光部，所述第二发光部出射具有与所述第一波长特性不同的第二波长特性的光；第二放大光学系统(30B)，形成所述第二光源元件各者的所述第二发光部的放大像；第二光学系统(81B)，由来自所述第二放大光学系统的光入射；及合成光学元件(DM2)，将来自所述第一光学系统的光、与来自所述第二光学系统的光进行合成，所述合成光学元件配置于作为所述第一光学系统的后侧焦点位置或其附近、且作为所述第二光学系统的后侧焦点位置或其附近的位置。

公开(公告)号：CN118475881A

公开(公告)日：2024-08-09

申请号：CN202280085593.9

申请日：2022-12-14

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  水野恭志 ,  川户聪

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/22

Abstract: 本发明使被照射面上的累计照度分布均匀化。一种曝光装置，将来自空间光调制器(10)的光向在扫描方向上被扫描的物体照射，对上述物体进行曝光，具备以照明光对上述空间光调制器(10)进行照明的照明单元(ILU)，上述照明单元(ILU)具有：光学积分器，其供上述照明光入射；和减光构件(FS)，其配置在上述光学积分器的出射面与上述空间光调制器(10)之间的光路上，且配置在不与上述光学积分器和上述空间光调制器(10)接触的位置，减少上述照明光的一部分。

公开(公告)号：CN117242403A

公开(公告)日：2023-12-15

申请号：CN202280030401.4

申请日：2022-04-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  水野恭志 ,  川户聪

IPC: G03F7/20

Abstract: 对形成有规定图案的掩模进行照明的照明光学系统包括：多个光源，其射出脉冲光；光学系统，其具有分割部、延迟光学系统以及合成分割部，所述分割部将从多个所述光源分别射出的所述脉冲光分割为第1脉冲光和第2脉冲光，所述延迟光学系统将所述第2脉冲光向比所述第1脉冲光通过的第1光路长的第2光路引导，所述合成分割部对所述第1脉冲光和从所述延迟光学系统通过的所述第2脉冲光进行合成，再将合成后的所述脉冲光分割并射出；以及照明系统，其将从所述光学系统射出的所述脉冲光分别向所述掩模引导，对所述掩膜进行照明。