公开(公告)号：CN1931858A

公开(公告)日：2007-03-21

申请号：CN200510102771.2

申请日：2005-09-15

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 李载禹 ,  李正烈 ,  金德倍 ,  金宰贤 ,  孙银卿

IPC: C07D407/08 ,  C08G4/00 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开了具有螺环缩酮基团的光刻胶聚合物，以及包括所述聚合物的光刻胶组合物。由于所述螺环缩酮基团脱保护反应的活化能较低，因此所述光刻胶聚合物和光刻胶组合物可以提高分辨率和制程范围；并且由于其PEB(曝光后烘焙)温度敏感性较低，可产生精细的光刻胶图案。

公开(公告)号：CN1931858B

公开(公告)日：2011-09-21

申请号：CN200510102771.2

申请日：2005-09-15

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 李载禹 ,  李正烈 ,  金德倍 ,  金宰贤 ,  孙银卿

IPC: C07D407/08 ,  C08G4/00 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开了具有螺环缩酮基团的光刻胶聚合物，以及包括所述聚合物的光刻胶组合物。由于所述螺环缩酮基团脱保护反应的活化能较低，因此所述光刻胶聚合物和光刻胶组合物可以提高分辨率和制程范围；并且由于其PEB(曝光后烘焙)温度敏感性较低，可产生精细的光刻胶图案。