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公开(公告)号：CN112970095B
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202080005934.8
申请日：2020-01-22
Applicant: 株式会社东芝 , 铠侠股份有限公司 , 国立大学法人东北大学
IPC: H01L21/205 , C23C16/44
Abstract: 根据实施方式，本申请提供一种处理装置，其对在包含硅及卤族元素的原料物质的反应或者包含硅的原料物质与包含卤族元素的原料物质的反应中产生的副产物进行处理。处理装置具备处理液罐、处理槽、供给机构和排气机构。在处理液罐中贮液包含碱性的水溶液处理液。向处理槽中投入包含副产物被处理构件。供给机构从处理液罐向处理槽供给处理液，通过所供给的处理液，在处理槽中对副产物进行处理。排气机构将通过处理液与副产物的反应而产生的气体从处理槽排气。
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公开(公告)号：CN112997281A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202080005933.3
申请日：2020-01-15
Applicant: 株式会社东芝 , 铠侠股份有限公司 , 国立大学法人东北大学
Abstract: 根据实施方式，本申请提供一种判定方法。判定方法对在使包含硅及卤素的物质反应或者使包含硅的物质与包含卤素的物质反应的工序中产生的副产物的处理的进行判定。副产物的处理包括使包含水的处理液与副产物接触而得到第一固形物。判定方法包括基于关于第一固形物的Si‑α键(α为选自由F、Cl、Br及I构成的组中的至少1种)及Si‑H键中的至少一者的利用化学分析的信号来判定副产物的处理的进行。
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公开(公告)号：CN118574950A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202380017741.8
申请日：2023-01-17
Applicant: 株式会社东芝 , 铠侠股份有限公司 , 国立大学法人东北大学
IPC: C23C16/44 , C01B33/107 , C23C16/24 , H01L21/205
Abstract: 本发明提供能够安全地处理含有卤硅烷类及卤硅烷类的水解物中的一者或两者的混合物的处理方法。根据实施方式，提供一种用于处理含有卤硅烷类及卤硅烷类的水解物中的一者或两者的混合物的处理方法。使所述混合物与pH8以上且pH14以下、且相对于所述混合物的质量相当于100倍以上的质量的处理液接触。
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公开(公告)号：CN112970095A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN202080005934.8
申请日：2020-01-22
Applicant: 株式会社东芝 , 铠侠股份有限公司 , 国立大学法人东北大学
IPC: H01L21/205 , C23C16/44
Abstract: 根据实施方式，本申请提供一种处理装置，其对在包含硅及卤族元素的原料物质的反应或者包含硅的原料物质与包含卤族元素的原料物质的反应中产生的副产物进行处理。处理装置具备处理液罐、处理槽、供给机构和排气机构。在处理液罐中贮液包含碱性的水溶液处理液。向处理槽中投入包含副产物被处理构件。供给机构从处理液罐向处理槽供给处理液，通过所供给的处理液，在处理槽中对副产物进行处理。排气机构将通过处理液与副产物的反应而产生的气体从处理槽排气。
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公开(公告)号：CN111758149B
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN201880090262.8
申请日：2018-10-25
Applicant: 株式会社东芝 , 国立大学法人东北大学
IPC: H01L21/205 , A62D3/36 , A62D101/49 , C23C16/44
Abstract: 根据一实施方式，提供一种处理液。处理液是用于对通过使用包含硅及卤素的气体使含硅物在基材上沉积的方法而产生的副产物进行处理的处理液。处理液包含无机碱及有机碱中的至少一者，且为碱性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111758148B
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN201880090250.5
申请日：2018-10-25
Applicant: 株式会社东芝 , 国立大学法人东北大学
IPC: H01L21/205 , A62D3/36 , A62D101/49 , C23C16/44
Abstract: 根据一实施方式，提供一种处理液。处理液是用于对具有环状结构的卤硅烷类进行处理的处理液。处理液包含无机碱及有机碱中的至少一者，且为碱性。
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公开(公告)号：CN112997281B
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202080005933.3
申请日：2020-01-15
Applicant: 株式会社东芝 , 铠侠股份有限公司 , 国立大学法人东北大学
Abstract: 根据实施方式，本申请提供一种判定方法。判定方法对在使包含硅及卤素的物质反应或者使包含硅的物质与包含卤素的物质反应的工序中产生的副产物的处理的进行判定。副产物的处理包括使包含水的处理液与副产物接触而得到第一固形物。判定方法包括基于关于第一固形物的Si‑α键(α为选自由F、Cl、Br及I构成的组中的至少1种)及Si‑H键中的至少一者的利用化学分析的信号来判定副产物的处理的进行。
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公开(公告)号：CN111485286B
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN202010069926.1
申请日：2020-01-21
Abstract: 本发明的实施方式涉及含硅物质形成装置。提供在不将形成排出路径的配管卸下的情况下，将在含有硅及卤素元素的原料物质的反应、或含有硅的原料物质与含有卤素元素的原料物质的反应中产生的副产物进行处理的含硅物质形成装置。根据实施方式，含硅物质形成装置具备反应室、排出机构、处理液罐、供给机构和流路切换构件。来自反应室的排出物质经由排出机构的排出路径而排出。供给机构将处理液从处理液罐经由供给管线向排出路径供给，利用所供给的处理液，将通过反应而产生的副产物在排出路径中处理。流路切换构件在与反应室及供给管线各自之间切换排出路径的连通状态。
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公开(公告)号：CN111758149A
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN201880090262.8
申请日：2018-10-25
IPC: H01L21/205 , A62D3/36 , A62D101/49 , C23C16/44
Abstract: 根据一实施方式，提供一种处理液。处理液是用于对通过使用包含硅及卤素的气体使含硅物在基材上沉积的方法而产生的副产物进行处理的处理液。处理液包含无机碱及有机碱中的至少一者，且为碱性。
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