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公开(公告)号:CN111697068B
公开(公告)日:2023-06-06
申请号:CN201910739105.1
申请日:2019-08-12
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
IPC: H01L29/739 , H01L29/06
Abstract: 提供一种可以抑制击穿的发生的半导体装置。半导体装置具有第1电极、第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的第2半导体区域、第1导电型的第3半导体区域、第2导电型的第4半导体区域、第1导电型的第5半导体区域、栅极电极、第2导电型的第6半导体区域、第2电极和配线部。配线部隔着绝缘层设于第6半导体区域之上,与第2电极分离,与栅极电极电连接。位于第6半导体区域下方的第1半导体区域的沿着第1面的面积、相对于位于第6半导体区域下方的第2半导体区域的沿着第1面的面积的比率,小于位于第4半导体区域下方的第1半导体区域的沿着第1面的面积、相对于位于第4半导体区域下方的第2半导体区域的沿着第1面的面积的比率。
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公开(公告)号:CN111697068A
公开(公告)日:2020-09-22
申请号:CN201910739105.1
申请日:2019-08-12
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
IPC: H01L29/739 , H01L29/06
Abstract: 提供一种可以抑制击穿的发生的半导体装置。半导体装置具有第1电极、第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的第2半导体区域、第1导电型的第3半导体区域、第2导电型的第4半导体区域、第1导电型的第5半导体区域、栅极电极、第2导电型的第6半导体区域、第2电极和配线部。配线部隔着绝缘层设于第6半导体区域之上,与第2电极分离,与栅极电极电连接。位于第6半导体区域下方的第1半导体区域的沿着第1面的面积、相对于位于第6半导体区域下方的第2半导体区域的沿着第1面的面积的比率,小于位于第4半导体区域下方的第1半导体区域的沿着第1面的面积、相对于位于第4半导体区域下方的第2半导体区域的沿着第1面的面积的比率。
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