公开(公告)号：CN1574224A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410061671.5

申请日：2004-06-23

Applicant: 株式会社东芝 ,  三洋电机株式会社

Inventor： 水野刚资 ,  见方裕一 ,  齐藤公英

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/31 ,  B05D5/00 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 薄膜涂布单元和薄膜涂布方法，为了通过控制施加在基质表面上的涂布溶液的干燥状态而在基质表面上形成均匀的绝缘膜。解决问题的方式：薄膜涂布单元有：基质保持器，用于水平保持基质；涂布溶液排出喷嘴；以及防干燥板，该防干燥板对着基质表面。当基质保持器相对于涂布溶液排出喷嘴沿从晶片前端向后端的方向进行相对运动时，涂布溶液施加在晶片表面上。这时，防干燥板布置在在离基质表面最大2mm的高度处，以便在晶片表面和防干燥板之间形成较浓的溶剂气体。因此，将防止在晶片表面上的涂布溶液干燥，并在晶片表面上形成均匀厚度的涂布膜。