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公开(公告)号:CN1274023C
公开(公告)日:2006-09-06
申请号:CN02121782.3
申请日:2002-05-31
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01L27/10897 , H01L27/0218
Abstract: 半导体衬底具有体区和埋入绝缘膜及空洞区的一方上形成的半导体区。体区包括多个存储单元、读出放大器和列选择门,半导体区包括字线选择电路和列选择电路。
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公开(公告)号:CN1428865A
公开(公告)日:2003-07-09
申请号:CN02121782.3
申请日:2002-05-31
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01L27/10897 , H01L27/0218
Abstract: 半导体衬底具有体区和埋入绝缘膜及空洞区的一方上形成的半导体区。体区包括多个存储单元、读出放大器和列选择门,半导体区包括字线选择电路和列选择电路。
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