公开(公告)号：CN1237396C

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN03121360.X

申请日：2003-03-26

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 酢谷拓路 ,  出羽恭子 ,  藤泽忠仁 ,  井上壮一

IPC: G03F1/16 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70641 ,  G03F1/44

Abstract: 本发明的目的在于以高灵敏度，高精度，监视曝光光源相对焦点位置的偏离，或曝光量变化。在光掩模上，具有器件图案，该器件图案具有开口部与掩模部；聚焦监视图案，或曝光量监视图案，该聚焦监视图案或曝光量监视图案具有开口部和掩模部，具有与器件图案中的至少一部分区域相同的平面图案形状。聚焦监视图案的开口部与掩模部的透射曝光光的相位差，与上述器件图案的开口部与掩模部的透射曝光光的相位差不同。另外，曝光量监视图案的开口部与器件图案的开口部的曝光光透射率不同。

公开(公告)号：CN1447189A

公开(公告)日：2003-10-08

申请号：CN03121360.X

申请日：2003-03-26

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 酢谷拓路 ,  出羽恭子 ,  藤泽忠仁 ,  井上壮一

IPC: G03F1/16 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70641 ,  G03F1/44

Abstract: 本发明的目的在于以高灵敏度，高精度，监视曝光光源相对焦点位置的偏离，或曝光量变化。在光掩模上，具有器件图案，该器件图案具有开口部与掩模部；聚焦监视图案，或曝光量监视图案，该聚焦监视图案或曝光量监视图案具有开口部和掩模部，具有与器件图案中的至少一部分区域相同的平面图案形状。聚焦监视图案的开口部与掩模部的透射曝光光的相位差，与上述器件图案的开口部与掩模部的透射曝光光的相位差不同。另外，曝光量监视图案的开口部与器件图案的开口部的曝光光透射率不同。