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公开(公告)号:CN114481337B
公开(公告)日:2024-04-16
申请号:CN202110953677.7
申请日:2021-08-19
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明的实施方式涉及电场纺丝装置以及电场纺丝头的清扫方法。本发明要解决的课题在于提供有效且适当地清扫在排列方向上排列有多个喷嘴的电场纺丝头的电场纺丝装置及其电场纺丝头的清扫方法。根据实施方式,电场纺丝装置具备电场纺丝头以及旋转刷。电场纺丝头具备排列的多个喷嘴,在多个喷嘴的各自上形成有能够喷出所供给的原料液的喷出口。旋转刷能够从喷出口所开口的一侧与多个喷嘴接触,并能够在与多个喷嘴接触的状态下以沿着多个喷嘴的排列方向的旋转轴为中心旋转。
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公开(公告)号:CN115704115A
公开(公告)日:2023-02-17
申请号:CN202210948605.8
申请日:2022-08-09
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明的实施方式涉及卷取装置、纺丝装置以及带状体的卷取方法,能够抑制膜的边缘包覆部分覆盖基材的边缘的带状体的卷取时的不良情况,提高带状体的卷取品质。根据实施方式,卷取装置具备卷取芯以及气流调整部。卷取芯卷取具有边缘包覆部分的带状体,该边缘包覆部分覆盖向包括宽度方向的边缘的基材的表面上排出原料液而形成的膜的边缘。气流调整部具备进行气体的排出和吸引中的至少一方的喷嘴,调整卷取于卷取芯的带状体的膜的边缘包覆部分周围的气流。
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公开(公告)号:CN104947319A
公开(公告)日:2015-09-30
申请号:CN201510097406.0
申请日:2015-03-05
Applicant: 株式会社东芝
Inventor: 都甲昌裕
CPC classification number: B05B5/0255 , B05B5/1608 , B05B12/20 , B05B13/0221
Abstract: 根据实施方式,成膜装置具有:喷出部,其喷出成膜材料;电压施加部,其对所述成膜材料施加电压,使所述成膜材料与被成膜物相比成为高电位;掩模,其设置在沿着从所述喷出部朝向所述被成膜物的未涂敷部的方向与所述未涂敷部重叠的位置;电位调整部,其使所述罩的电位与所述被成膜物为相同电位。
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公开(公告)号:CN114481337A
公开(公告)日:2022-05-13
申请号:CN202110953677.7
申请日:2021-08-19
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明的实施方式涉及电场纺丝装置以及电场纺丝头的清扫方法。本发明要解决的课题在于提供有效且适当地清扫在排列方向上排列有多个喷嘴的电场纺丝头的电场纺丝装置及其电场纺丝头的清扫方法。根据实施方式,电场纺丝装置具备电场纺丝头以及旋转刷。电场纺丝头具备排列的多个喷嘴,在多个喷嘴的各自上形成有能够喷出所供给的原料液的喷出口。旋转刷能够从喷出口所开口的一侧与多个喷嘴接触,并能够在与多个喷嘴接触的状态下以沿着多个喷嘴的排列方向的旋转轴为中心旋转。
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公开(公告)号:CN104947319B
公开(公告)日:2017-07-18
申请号:CN201510097406.0
申请日:2015-03-05
Applicant: 株式会社东芝
Inventor: 都甲昌裕
CPC classification number: B05B5/0255 , B05B5/1608 , B05B12/20 , B05B13/0221
Abstract: 根据实施方式,成膜装置具有:喷出部,其喷出成膜材料;电压施加部,其对所述成膜材料施加电压,使所述成膜材料与被成膜物相比成为高电位;掩模,其设置在沿着从所述喷出部朝向所述被成膜物的未涂敷部的方向与所述未涂敷部重叠的位置;电位调整部,其使所述罩的电位与所述被成膜物为相同电位。
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公开(公告)号:CN207511881U
公开(公告)日:2018-06-19
申请号:CN201721103973.3
申请日:2017-08-31
Applicant: 株式会社东芝
Inventor: 都甲昌裕
IPC: C02F1/461
Abstract: 提供一种能抑制氯气泄漏且小型化的电解水生成装置。根据实施方式,电解水生成装置具有:壳体(52);电解槽(20),设置于壳体内;缓冲罐(70),具有容纳电解液的密闭结构,且设置于壳体内;第一泵(42),设置于壳体内,从贮存电解液的外部罐向缓冲罐供给电解液;以及电解液供给部,设置于壳体内,通过第二泵(58)向电解槽的电解液室供给缓冲罐的电解液,并将流经电解液室的电解液送到缓冲罐。
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