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公开(公告)号：CN1447112A
公开(公告)日：2003-10-08
申请号：CN03121185.2
申请日：2003-03-27
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G01N21/8422 , G01N21/55 , G01R31/2656 , H01L22/12
Abstract: 一种通过光学测量判断样品上残留膜的方法，样品包括一个第一金属膜和一个绝缘膜，上述第一金属膜的反射度的变化取决于测量光波长，而上述绝缘膜在第一金属膜上方形成，残留膜是绝缘膜上方的第二金属膜，该方法包括：用测量光照射样品，以便测量从样品反射的光强度随测量光波长变化而改变的情况，因而得到一个反射度光谱曲线；及将反射度光谱曲线分成数个波长区，以便根据反射度光谱曲线的每个光谱区中的波形，判断在绝缘膜上方是否存在第二金属膜。
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公开(公告)号：CN100407392C
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN03121185.2
申请日：2003-03-27
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G01N21/8422 , G01N21/55 , G01R31/2656 , H01L22/12
Abstract: 一种通过光学测量判断样品上残留膜的方法，样品包括一个第一金属膜和一个绝缘膜，上述第一金属膜的反射度的变化取决于测量光波长，而上述绝缘膜在第一金属膜上方形成，残留膜是绝缘膜上方的第二金属膜，该方法包括：用测量光照射样品，以便测量从样品反射的光强度随测量光波长变化而改变的情况，因而得到一个反射度光谱曲线；及将反射度光谱曲线分成数个波长区，以便根据反射度光谱曲线的每个光谱区中的波形，判断在绝缘膜上方是否存在第二金属膜。
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公开(公告)号：CN101040370A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200580034805.7
申请日：2005-10-12
IPC: H01L21/304 , B24B21/00 , B24B9/00
CPC classification number: H01L21/02021 , B24B9/065 , B24B21/002
Abstract: 一种抛光装置具有：抛光带(21)；供给卷轴(22)，用于把抛光带(21)供给到接触部分(30)中，在该接触部分上，抛光带(21)与基体(10)的凹槽部分(11)产生接触；及拾取卷轴(23)，用于缠绕来自接触部分(30)的抛光带(21)。该抛光装置还具有：第一导向部分(24)，它具有导向表面(241)从而把抛光带(21)直接供给到接触部分(30)中；及第二导向部分(25)，它具有导向表面，从而把抛光带(21)供给到拾取卷轴(23)中。第一导向部分(24)的导向表面(241)和/或第二导向部分(25)的导向表面具有与基体(10)的凹槽部分(11)的形状相对应的形状。
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公开(公告)号：CN100452312C
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200580034805.7
申请日：2005-10-12
IPC: H01L21/304 , B24B21/00 , B24B9/00
CPC classification number: H01L21/02021 , B24B9/065 , B24B21/002
Abstract: 一种抛光装置具有：抛光带(21)；供给卷轴(22)，用于把抛光带(21)供给到接触部分(30)中，在该接触部分上，抛光带(21)与基体(10)的凹槽部分(11)产生接触；及拾取卷轴(23)，用于缠绕来自接触部分(30)的抛光带(21)。该抛光装置还具有：第一导向部分(24)，它具有导向表面(241)从而把抛光带(21)直接供给到接触部分(30)中；及第二导向部分(25)，它具有导向表面，从而把抛光带(21)供给到拾取卷轴(23)中。第一导向部分(24)的导向表面(241)和/或第二导向部分(25)的导向表面具有与基体(10)的凹槽部分(11)的形状相对应的形状。
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