公开(公告)号：CN117256060A

公开(公告)日：2023-12-19

申请号：CN202180097318.4

申请日：2021-11-04

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 原谅 ,  大谷夏希 ,  斋藤陆遥 ,  猿渡秀乡

IPC: H01M4/485

Abstract: 根据实施方式，提供一种电极，其包含活性物质粒子和粘结剂。电极利用氮吸附法得到的BET比表面积为2m2/g以上且10m2/g以下。活性物质粒子包含含钛氧化物，平均一次粒径为200nm以上且600nm以下。粘结剂包含第1羧基和第2羧基，平均分子量大于100万。此外，粘结剂满足(1)式。0.2≤B/A

公开(公告)号：CN116114078A

公开(公告)日：2023-05-12

申请号：CN202080103553.3

申请日：2020-12-25

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 原谅 ,  大谷夏希 ,  斋藤陆遥

IPC: H01M4/131

Abstract: 根据实施方式，提供包含含有含钛氧化物的活性物质的电极。活性物质具有200nm以上且600nm以下的平均一次粒径。关于电极的基于氮吸附法的比表面积SA与基于水银压入法的细孔比表面积SB满足0.3≤SA/SB＜0.6的关系。

公开(公告)号：CN118511298A

公开(公告)日：2024-08-16

申请号：CN202280087537.9

申请日：2022-01-04

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 斋藤陆遥 ,  大谷夏希 ,  长谷川卓哉

IPC: H01M4/131 ,  H01M4/525

Abstract: 根据实施方式，提供一种具备含有活性物质的含活性物质层的电极。活性物质包含具有2μm以上且7μm以下的平均一次粒径的锂镍钴锰复合氧化物。基于氮气吸附法的含活性物质层的比表面积SBET和基于压汞法的含活性物质层的细孔比表面积SHg满足0.8＜SBET/SHg＜2.0的关系。含活性物质层的细孔比表面积SHg和基于压汞法的含活性物质层的细孔体积VHg满足20m2/mL＜SHg/VHg＜60m2/mL的关系。