公开(公告)号：CN102419512B

公开(公告)日：2013-07-17

申请号：CN201110226018.X

申请日：2011-08-08

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 中川泰忠 ,  河野拓也 ,  米田郁男 ,  幡野正之

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/16 ,  H01L21/312

CPC classification number: G05B19/418 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/16

Abstract: 本发明提供微细加工方法及微细加工装置。根据一个实施方式，提供利用抗蚀剂的微细加工方法。按图案形成面的第一区域决定所需的抗蚀剂量。决定图案形成面整个区域的抗蚀剂总量。抗蚀剂总量除以抗蚀剂滴的容量。决定抗蚀剂滴的总数，对于该总数个抗蚀剂滴中的每个抗蚀剂滴，决定在图案形成面中的临时位置。按最接近的抗蚀剂滴分配各个第一区域。按第二区域重新划分图案形成面，该第二区域按抗蚀剂滴分配。按第二区域，决定一个抗蚀剂滴的容量除以对属于第二区域内的第一区域中的每个第一区域决定的需要的抗蚀剂量的总计而得到的值。在除法运算得到的值在图案形成面内的分布处于设为目标的范围内时，确定全部抗蚀剂滴的位置。

公开(公告)号：CN102419512A

公开(公告)日：2012-04-18

申请号：CN201110226018.X

申请日：2011-08-08

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 中川泰忠 ,  河野拓也 ,  米田郁男 ,  幡野正之

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/16 ,  H01L21/312

CPC classification number: G05B19/418 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/16

Abstract: 本发明提供微细加工方法及微细加工装置。根据一个实施方式，提供利用抗蚀剂的微细加工方法。按图案形成面的第一区域决定所需的抗蚀剂量。决定图案形成面整个区域的抗蚀剂总量。抗蚀剂总量除以抗蚀剂滴的容量。决定抗蚀剂滴的总数，对于该总数个抗蚀剂滴中的每个抗蚀剂滴，决定在图案形成面中的临时位置。按最接近的抗蚀剂滴分配各个第一区域。按第二区域重新划分图案形成面，该第二区域按抗蚀剂滴分配。按第二区域，决定一个抗蚀剂滴的容量除以对属于第二区域内的第一区域中的每个第一区域决定的需要的抗蚀剂量的总计而得到的值。在除法运算得到的值在图案形成面内的分布处于设为目标的范围内时，确定全部抗蚀剂滴的位置。