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公开(公告)号：CN102880005A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210070064.X
申请日：2012-03-16
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70408
Abstract: 提供了干涉曝光设备和方法。根据一个实施例，该实施例的干涉曝光设备，包括：光路改变部分，其中改变元件被基本轴对称地设置，所述改变元件适于对彼此具有相干性的多个光束改变该多个光束的光路方向和光路长度；以及调节部分，其用于与将在基底上形成的图形形状相对应地对入射基底的光束的一部分进行强度改变或相位改变，从而调节该光束的一部分。从光路改变部分和调节部分出射的光束在基底上干涉以在基底上进行干涉曝光。
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