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公开(公告)号：CN1095410A
公开(公告)日：1994-11-23
申请号：CN94104356.8
申请日：1990-10-25
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C11D3/37
CPC classification number: C11D3/3734 , B01D12/00 , C11D1/02 , C11D1/29 , C11D1/347 , C11D1/62 , C11D1/66 , C11D1/88 , C11D3/162 , C11D3/373 , C11D3/3738 , C11D3/3742 , C11D3/43 , C11D7/5009 , C11D11/0023 , C11D11/0029 , C11D11/0041 , C11D11/0047 , C11D11/0064 , C23G1/24 , C23G1/36 , C23G5/032
Abstract: 本发明涉及非水系洗净剂，它含有选自直链聚二有机硅氧烷和环状聚二有机硅氧烷中至少一种低分子量聚有机硅氧烷，还可配合表面活性剂和/或亲水性溶剂。用它可洗净金属、玻璃和陶瓷类的部件，以及表面处理、半导体、电子、精密机械、光学等有关部件。本发明洗净剂洗净能力可与氟类传统洗净剂比美，而且不会破坏或污染环境，稳定性好。
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公开(公告)号：CN1103113A
公开(公告)日：1995-05-31
申请号：CN94104357.6
申请日：1990-10-25
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: C11D3/3734 , B01D12/00 , C11D1/02 , C11D1/29 , C11D1/347 , C11D1/62 , C11D1/66 , C11D1/88 , C11D3/162 , C11D3/373 , C11D3/3738 , C11D3/3742 , C11D3/43 , C11D7/5009 , C11D11/0023 , C11D11/0029 , C11D11/0041 , C11D11/0047 , C11D11/0064 , C23G1/24 , C23G1/36 , C23G5/032
Abstract: 本发明洗净方法所用洗净剂可代替氟系洗净剂，不会污染或破坏环境，具安全和稳定性。洗净对象为金属、玻璃、陶瓷、电子、半导体、光学以及表面处理等部件。所用洗净剂包括选自直链聚二有机硅氧烷和环状聚二有机硅氧烷中至少一种的低分子量聚有机硅氧烷、含聚氧亚烷基的聚有机硅氧烷、表面活性剂、水，或亲水性溶剂。在洗净工序和漂洗工序中可同时对其废液进行回收、再生。在精细洗净工序中进行最终洗净、将残留表面的洗净液置换并使其干燥。
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公开(公告)号：CN1027451C
公开(公告)日：1995-01-18
申请号：CN90108720.3
申请日：1990-10-25
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明涉及一种含有直链聚二有机硅氧烷和环状聚二有机硅氧烷中选择出来的至少一种低分子量聚有机硅氧烷的洗净组合物。作为水系洗净剂使用时，还配合含聚氧乙烯基的聚有机硅氧烷，表面活性剂和水。因此，不会破坏或污染坏境且有良好的稳定性，其洗净能力可与氟里昂类相比美。作脱水洗净剂使用时，可以是上述低分子量聚有机硅氧烷单独，或其中掺和表面活性剂用/或亲水性溶剂，因此洗净，水置换性可与氟里昂系相比美，而且对环境具有安全性。
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公开(公告)号：CN1051196A
公开(公告)日：1991-05-08
申请号：CN90108720.3
申请日：1990-10-25
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C11D3/37
Abstract: 本发明涉及一种含有直链聚二有机硅氧烷和环状聚二有机硅氧烷中选择出来的至少一种低分子量聚有机硅氧烷的洗净组合物。作为水系洗净剂使用时，还配合含聚氧乙烯基的聚有机硅氧烷，表面活性剂和水。因此，不会破坏或污染环境且有良好的稳定性，其洗净能力可与氟里昂类相比美。作脱水洗净剂使用时，可以是上述低分子量聚有机硅氧烷单独，或其中掺和表面活性剂用/或亲水性溶剂，因此洗净。水置换性可与氟里昂系相比美，而且对环境具有安全性。
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