公开(公告)号：CN1193178A

公开(公告)日：1998-09-16

申请号：CN98105986.4

申请日：1998-02-07

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 井上清 ,  石井努 ,  及川充广 ,  中条善文

IPC: H01J9/50

CPC classification number: C09K11/01 ,  Y02W30/72

Abstract: 一种荧光体的再生方法,其特征是依次包括将回收的荧光体浆液用次氯酸盐和过碘酸盐洗涤的药品洗涤工序,用氨水去除浮游在上清液中碳的除碳工序,酸洗工序和热处理工序,以及包括实现这些工序的荧光体再生装置。根据这种构成,可简便有效地从回收荧光体浆液中去除杂物,可再生成具有优良辉度和荧光膜品位的荧光体。

公开(公告)号：CN1113378C

公开(公告)日：2003-07-02

申请号：CN98105986.4

申请日：1998-02-07

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 井上清 ,  石井努 ,  及川充广 ,  中条善文

IPC: H01J9/00 ,  C09K11/01

CPC classification number: C09K11/01 ,  Y02W30/72

Abstract: 一种荧光体的再生方法，它是对在显像管荧光面涂布工序中产生的剩余荧光体，进行回收、再生的红色荧光体的再生方法，其特征在于，所述方法包括以下工序：(a)将回收的所述荧光体浆液中由铬化合物构成的杂物和由有机化合物构成的杂物用次氯酸盐和过碘酸盐进行分解、去除的药品洗涤工序；(b)将浓度为0.005～0.5重量%的氨水投入到荧光体浆液中搅拌后，静置，使碳浮游在上清液中，除去上清液中所含碳的除碳工序；(c)对所述荧光体浆液用盐酸或硝酸洗涤的酸洗工序；(d)将荧光体浆液过滤、干燥后，在350～600℃下进行热处理的热处理工序。以及包括实现这些工序的荧光体再生装置。根据这种构成可简便有效地从回收荧光体浆液中去除杂物，再生成具有优良辉度和荧光膜品位的荧光体。