公开(公告)号：CN109896990A

公开(公告)日：2019-06-18

申请号：CN201811494814.X

申请日：2018-12-07

Applicant: 株式会社三养社 ,  韩国化学研究院

Inventor： 李元重 ,  吴泉林 ,  李得洛 ,  辛承林 ,  全根 ,  申钟一 ,  安庆龙 ,  朴活基 ,  吴柔珍

IPC: C07D209/86 ,  C07D209/88 ,  C08F2/48 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027

Abstract: 本发明涉及由化学式1或化学式2表示的咔唑肟酯衍生化合物以及含有该化合物的光聚合引发剂和光敏组合物。在化学式1和化学式2中，A和R1-R4与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN109896990B

公开(公告)日：2023-04-21

申请号：CN201811494814.X

申请日：2018-12-07

Applicant: 株式会社三养社 ,  韩国化学研究院

Inventor： 李元重 ,  吴泉林 ,  李得洛 ,  辛承林 ,  全根 ,  申钟一 ,  安庆龙 ,  朴活基 ,  吴柔珍

IPC: C07D209/86 ,  C07D209/88 ,  C08F2/48 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027

Abstract: 本发明涉及由化学式1或化学式2表示的咔唑肟酯衍生化合物以及含有该化合物的光聚合引发剂和光敏组合物。在化学式1和化学式2中，A和R1‑R4与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN113227050B

公开(公告)日：2024-03-12

申请号：CN201980086476.2

申请日：2019-12-27

Applicant: 株式会社三养社 ,  韩国化学研究院

Inventor： 李元重 ,  李得洛 ,  吴泉林 ,  辛承林 ,  全根 ,  安庆龙 ,  朴活基

IPC: C07D209/88 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/028 ,  G03F7/105

Abstract: 本发明涉及由化学式1表示的咔唑多β‑肟酯衍生物化合物，及包含该咔唑多β‑肟酯衍生化合物的光聚合引发剂及光刻胶组合物。在化学式1中，A及R1至R3各自与详细描述中所定义的相同。#imgabs0#

公开(公告)号：CN113227050A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201980086476.2

申请日：2019-12-27

Applicant: 株式会社三养社 ,  韩国化学研究院

Inventor： 李元重 ,  李得洛 ,  吴泉林 ,  辛承林 ,  全根 ,  安庆龙 ,  朴活基

IPC: C07D209/88 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/028 ,  G03F7/105

Abstract: 本发明涉及由化学式1表示的咔唑多β‑肟酯衍生物化合物，及包含该咔唑多β‑肟酯衍生化合物的光聚合引发剂及光刻胶组合物。在化学式1中，A及R1至R3各自与详细描述中所定义的相同。

公开(公告)号：CN107250105B

公开(公告)日：2019-08-20

申请号：CN201680008616.0

申请日：2016-02-02

Applicant: 韩国化学研究院 ,  株式会社三养社

Inventor： 吴泉林 ,  辛承林 ,  申钟一 ,  安庆龙 ,  全根 ,  李得洛 ,  赵镛一 ,  李敏善 ,  李元重 ,  李栽训

IPC: C07C251/66 ,  C07C251/68 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及新型肟酯衍生物化合物、包含其的光聚合引发剂及光致抗蚀剂组合物，详细而言，根据本发明的肟酯衍生物化合物由于敏感度、耐热性、耐光性、耐化学性和耐显影性优异，因此即使以少量使用也能够提供对TFT‑LCD制造工序中的曝光和后烘工序等有效的光聚合引发剂和光致抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：CN107250105A

公开(公告)日：2017-10-13

申请号：CN201680008616.0

申请日：2016-02-02

Applicant: 韩国化学研究院 ,  株式会社三养社

Inventor： 吴泉林 ,  辛承林 ,  申钟一 ,  安庆龙 ,  全根 ,  李得洛 ,  赵镛一 ,  李敏善 ,  李元重 ,  李栽训

IPC: C07C251/66 ,  C07C251/68 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及新型肟酯衍生物化合物、包含其的光聚合引发剂及光致抗蚀剂组合物，详细而言，根据本发明的肟酯衍生物化合物由于敏感度、耐热性、耐光性、耐化学性和耐显影性优异，因此即使以少量使用也能够提供对TFT‑LCD制造工序中的曝光和后烘工序等有效的光聚合引发剂和光致抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：CN114127637A

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN202080050829.6

申请日：2020-07-10

Applicant: 株式会社三养社

Inventor： 韩美井 ,  李德熙 ,  丁银美 ,  李元重 ,  金宣炯 ,  施允基 ,  吴泉林 ,  李得洛

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G02F1/1339 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明涉及一种光敏性树脂组合物，更详细地，涉及一种实现微细图案的同时具有高的残膜率，从而适合形成柱状隔垫物、黑色矩阵或着色(例如，黑色)的柱状隔垫物，因此可以用于包括OLED显示器和TFT‑LCD面板在内的各种电子元件的光敏性树脂组合物。

公开(公告)号：CN116670586A

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN202180087522.8

申请日：2021-12-28

Applicant: 株式会社三养社

Inventor： 吴泉林 ,  崔大赫 ,  崔维娜 ,  李得洛 ,  崔智恩 ,  姜奇兑 ,  金珉政 ,  李元重 ,  李致玩

IPC: G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种萘二甲酰亚胺的磺酸衍生物以及各自包含该萘二甲酰亚胺的磺酸衍生物的光致产酸剂和光刻胶组合物，更详细地，涉及一种萘二甲酰亚胺的磺酸衍生物化合物以及各自包含该萘二甲酰亚胺的磺酸衍生物化合物的光致产酸剂和光刻胶组合物，其中所述萘二甲酰亚胺的磺酸衍生物化合物对i‑线(365nm)波长的光具有优异的吸收能力，由于在有机溶剂中具有非常高的溶解性，所以非常容易制备聚合性组合物，并且具有优异的热稳定性，而且表现出良好的产酸率。

公开(公告)号：CN113677670B

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202080023353.7

申请日：2020-03-20

Applicant: 株式会社三养社 ,  成均馆大学校产学协力团

Inventor： 吴泉林 ,  李得洛 ,  李元重 ,  李致玩 ,  崔智恩 ,  金荣硕 ,  梁晶云 ,  李泰宇

IPC: C07D307/68

Abstract: 本发明涉及一种用于合成2,5‑呋喃二甲酸的方法，更具体地，本发明涉及一种即使不使用过渡金属催化剂也能够以高纯度和高产率制备具有多种功能的2,5‑呋喃二甲酸的更高效且更经济的方法。

公开(公告)号：CN116249937A

公开(公告)日：2023-06-09

申请号：CN202180066646.8

申请日：2021-09-29

Applicant: 株式会社三养社

Inventor： 吴泉林 ,  崔大赫 ,  金珉政 ,  李得洛 ,  李元重 ,  崔维娜 ,  崔智恩

IPC: G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种萘二甲酰亚胺磺酸酯衍生物以及包含该萘二甲酰亚胺磺酸酯衍生物的光致产酸剂和光刻胶组合物，更详细地，涉及一种如下的萘二甲酰亚胺磺酸酯衍生物化合物以及包含该萘二甲酰亚胺磺酸酯衍生物化合物的光致产酸剂和光刻胶组合物，所述萘二甲酰亚胺磺酸酯衍生物化合物对i‑线(365nm)波长的光具有优异的吸光度，在有机溶剂中具有高溶解性，并且具有优异的热稳定性，而且表现出良好的产酸率。