-
公开(公告)号：CN106178023A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201610239083.9
申请日：2016-04-18
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 本发明提供使等离子液的氧化能力安全地降低的等离子液处理方法、等离子液处理装置及口腔清洗装置。该等离子液处理方法使通过等离子体使液体形成了氧化能力的等离子液与对象物接触(S24)，将使等离子液与对象物接触后残留的残留等离子液与水混合(S26)。
-
公开(公告)号：CN105271475A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201510202999.2
申请日：2015-04-24
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: C02F1/46
CPC classification number: B01J19/088 , B01J2219/0809 , B01J2219/0813 , B01J2219/083 , B01J2219/0841 , B01J2219/0877 , B01J2219/0884 , B01J2219/0894 , C02F1/4606 , C02F1/4608 , C02F2001/46138 , C02F2303/04 , C02F2305/023
Abstract: 提供能够使处理液的氧化能力提高的处理液生成装置及处理液生成方法。本公开的处理液生成装置具备：第1槽；第1等离子发生装置，包括各自的至少一部分配置在上述第1槽内的一对第1电极和在上述一对第1电极间施加电压的电源，使上述第1槽内的液体中产生等离子；第2槽；第2等离子发生装置，包括各自的至少一部分配置在上述第2槽内的一对第2电极和在上述一对第2电极间施加电压的电源，使上述第2槽内的液体中产生等离子；以及控制装置。上述控制装置使上述第1等离子发生装置在第1时间的期间中产生等离子而在上述第1槽内生成第1处理液；使上述第2等离子发生装置在比上述第1时间长的第2时间的期间中产生等离子而在上述第2槽内生成第2处理液。上述第1处理液的初始氧化力比上述第2处理液的初始氧化力高；上述第2处理液的持续氧化力比上述第1处理液的持续氧化力高。
-
公开(公告)号：CN106178023B
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201610239083.9
申请日：2016-04-18
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 本发明提供使等离子液的氧化能力安全地降低的等离子液处理方法、等离子液处理装置及口腔清洗装置。该等离子液处理方法使通过等离子体使液体形成了氧化能力的等离子液与对象物接触(S24)，将使等离子液与对象物接触后残留的残留等离子液与水混合(S26)。
-
-
Search Results
3
records
(took 0.03 seconds)
