半导体光电器件
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1155110C

    公开(公告)日:2004-06-23

    申请号:CN98100637.X

    申请日:1998-02-23

    Abstract: 本发明提供一种和以前相比,光检测灵敏度更高,光遥控接收装置的接收距离更长的光接收装置。在由N型杂质区域构成的受光部形成在其中的P型半导体衬底上,形成第1P型杂质区域来作为消除电磁噪声的屏蔽部。该屏蔽部呈网格状覆盖受光部的一部分表面,以防止因它和受光部相互接触而引起的自发噪声过大。并且,形成比受光部深的第2P型杂质区域来包围第1P型杂质区域,以便消除来自半导体衬底侧面的电磁噪声。

    光检测装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN1091302C

    公开(公告)日:2002-09-18

    申请号:CN96100548.3

    申请日:1996-04-04

    CPC classification number: H01L27/1443

    Abstract: 提供可使用各种放大器且电路规模小的光检测装置及其制造方法。第1受光部分PD1由P型半导体基板上形成的N型第1杂质区和N型第1杂质区表面上形成的P型第2杂质区构成,第2受光部分PD2由P型半导体基板和其上形成的N型第3杂质区构成。第1和第2受光部分串联连接,所以使用双极型晶体管作为放大装置能够减小光检测装置的电路规模。另外,第1、第2受光部分上分别加反向偏置电压,提高了光灵敏度。此外,可通过第1、第2受光部分的面积比设定检测光的波段。

    光接收装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1192054A

    公开(公告)日:1998-09-02

    申请号:CN98100637.X

    申请日:1998-02-23

    Abstract: 本发明提供一种和以前相比,光检测灵敏度更高,光遥控接收装置的接收距离更长的光接收装置。在由N型杂质区域构成的受光部形成在其中的P型半导体衬底上,形成第1P型杂质区域来作为消除电磁噪声的屏蔽部。该屏蔽部呈网格状覆盖受光部的一部分表面,以防止因它和受光部相互接触而引起的自发噪声过大。并且,形成比受光部深的第2P型杂质区域来包围第1P型杂质区域,以便消除来自半导体衬底侧面的电磁噪声。

Patent Agency Ranking