使用光的缺陷检查方法及其装置

    公开(公告)号:CN1115555C

    公开(公告)日:2003-07-23

    申请号:CN97111442.0

    申请日:1997-05-22

    CPC classification number: G01N21/8903

    Abstract: 本发明是使用光的缺陷检查方法及其检查装置。用由半导体激光一维配置的列状光源和投影透镜在被检查物体上进行强度变化的虚线状照明。用线状传感器通过物镜摄像。接着一边用试样台使被检查物体依序移动一边通过用线状传感器的信号和试样台的信号形成图像的前处理部向图象处理部输入图像信号并进行图象处理,以此可以检测被检查物体上的光学不均匀部分,确认有否裂纹缺陷。以此方法可高精度、高速度地检测陶瓷基板和金属烧结材料等的裂纹缺陷。

    测量双折射层厚度的方法及其装置

    公开(公告)号:CN1064757C

    公开(公告)日:2001-04-18

    申请号:CN96110780.4

    申请日:1996-06-26

    CPC classification number: G01N21/23

    Abstract: 将液晶层3设在平行或正交尼科尔棱镜的两个偏振片2、6之间,并在其间放置一相移片4使第一偏振片透射方向与光轴一致,再测量第二偏振片透射光强为极限值时的旋转角度,并按相移片旋转角度计算双折射层的厚度。另一方法采用了一个半波片,首先将液晶层设在光强为极限值的位置,调整两个偏振片间的半波片使第一偏振片透镜方向与光轴一致,然后测量当第二偏振片透射光强度为极限值时的半波片旋转角度,再根据该角度计算双折射层厚度。

    折射率测定装置
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102007392B

    公开(公告)日:2013-01-16

    申请号:CN201080001377.9

    申请日:2010-01-21

    CPC classification number: G01M11/0228

    Abstract: 本发明提供一种折射率测定装置。以将被检物(23)夹在中间的方式配置两个探针光学系统(22、24)以便用于测定被检物(23),由此,利用该被检物的干涉信号算出通过局部确定的被检物中的光的光程长度,而且,通过测定探针光学系统的位置而算出该部分的几何厚度,求出光程长度和几何厚度这两个值,并基于这些值和基准物的计算值,求出被检物的折射率分布。

    使用光的缺陷检查方法及其装置

    公开(公告)号:CN1182211A

    公开(公告)日:1998-05-20

    申请号:CN97111442.0

    申请日:1997-05-22

    CPC classification number: G01N21/8903

    Abstract: 本发明是使用光的缺陷检查方法及其检查装置。用由半导体激光一维配置的列状光源和投影透镜在被检查物体上进行强度变化的虚线状照明。用线状传感器通过物镜摄像。接着一边用试样台使被检查物体依序移动一边通过用线状传感器的信号和试样台的信号形成图像的前处理部向图象处理部输入图像信号并进行图象处理,以此可以检测被检查物体上的光学不均匀部分,确认有否裂纹缺陷。以此方法可高精度、高速度地检测陶瓷基板和金属烧结材料等的裂纹缺陷。

    测量双折射层厚度的方法及其装置

    公开(公告)号:CN1155652A

    公开(公告)日:1997-07-30

    申请号:CN96110780.4

    申请日:1996-06-26

    CPC classification number: G01N21/23

    Abstract: 将液晶层3设在平行或正交尼科尔棱晶的两个偏振片2、6之间,并在其间设置一相移片4使第一偏振片透射方向与光轴一致,再测量第二偏振片透射光强为极限值时的旋转角度,并按相移片旋转角度计算双折射层厚度。另一方法采用了一个半波片,首先将液晶层设在光强为极限值的位置,调整两个偏振片间的半波片使第一偏振片透射方向与光轴一致,然后测量当第二偏振片透射光强为极限值时的半波片旋转角度,再根据该角度计算双折射层厚度。

    折射率测定装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102007392A

    公开(公告)日:2011-04-06

    申请号:CN201080001377.9

    申请日:2010-01-21

    CPC classification number: G01M11/0228

    Abstract: 本发明提供一种折射率测定装置。以将被检物(23)夹在中间的方式配置两个探针光学系统(22、24)以便用于测定被检物(23),由此,利用该被检物的干涉信号算出通过局部确定的被检物中的光的光程长度,而且,通过测定探针光学系统的位置而算出该部分的几何厚度,求出光程长度和几何厚度这两个值,并基于这些值和基准物的计算值,求出被检物的折射率分布。

    表面形状测定方法及表面形状测定装置

    公开(公告)号:CN102713504B

    公开(公告)日:2014-08-27

    申请号:CN201180006951.4

    申请日:2011-12-15

    CPC classification number: G01B11/2441 G01B9/02064 G01B9/0209

    Abstract: 本表面形状测定方法将包含不同的波长的白色光(8A)分割成参照光(8C)和测定光(8B),使测定光(8B)向被测定面(3)入射,使参照光(8C)向第一衍射光栅(20)入射,将参照光(8C)和由被测定面(3)反射出的测定光(8B)合成,作为干涉光(8D),来测定被测定面(3)的表面形状,其中该参照光(8C)是从第一衍射光栅(20)通过第一光路向第二衍射光栅(21)入射之后、从第二衍射光栅(21)通过第一光路向第一衍射光栅(20)入射而从第一衍射光栅(20)射出的光。

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