分子膜的制备方法和制备装置

    公开(公告)号:CN1104475C

    公开(公告)日:2003-04-02

    申请号:CN97126413.9

    申请日:1997-11-08

    CPC classification number: B82Y30/00 B05D1/283 B05D3/0486 B82Y40/00

    Abstract: 采用由至少一种硅烷系化合物和溶剂构成的溶液与基材通过硅烷系化合物形成硅氧烷键在基材上形成膜厚度为0.1纳米-1微米的分子膜。在表面上有活性氢的基材(2)的表面上涂覆含有例如氯硅烷系化合物的涂覆溶液,在基材表面的活性氢和上述硅烷系化合物的氯之间发生脱除氯化氢的反应,在基材表面上制备共价键硅烷系化合物的分子膜的方法,在保持低水蒸气浓度的气氛状态下的展开槽(11)内,送入上述基材,使用转印装置(6,7),在上述基材表面上涂覆含有硅烷系化合物和溶剂的涂覆溶液,在上述基材表面的活性氢和上述硅烷系化合物的氯之间进行脱除氯化氢的反应,之后在展开槽内或在外除去上述涂覆之后未反应的涂覆溶液。

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