公开(公告)号：CN114815508A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202210757464.1

申请日：2022-06-30

Applicant: 杭州福斯特应用材料股份有限公司

Inventor： 朱薛妍 ,  李伟杰 ,  韩传龙 ,  傅明 ,  陈涛

IPC: G03F7/09 ,  H05K3/06

Abstract: 本发明属于电子材料技术领域。本发明公开了一种感光干膜抗蚀剂层压体，其包括：支撑层，包括第一面和第二面；抗蚀剂层，设于支撑层的第一面，抗蚀剂层包括抗蚀剂；第一面与抗蚀剂层之间具有第一剥离强度，第二面与抗蚀剂层之间具有第二剥离强度，第一剥离强度大于第二剥离强度；支撑层满足，第二面与抗蚀剂层剥离后，第二面上抗蚀剂的残留量小于等于0.01wt%。本发明采用不包含保护层的感光干膜抗蚀剂层压体，解决了保护层缺陷引起的抗蚀剂层质量问题，并且可以降低成本，缩减覆盖保护层工艺；本发明对支撑层远离抗蚀剂层的一面进行改性，使感光干膜抗蚀剂层压体进行收卷时抗蚀剂层不会发生粘连损坏，轻易地将抗蚀剂层从卷中释放开进行贴膜。

公开(公告)号：CN114815508B

公开(公告)日：2022-09-23

申请号：CN202210757464.1

申请日：2022-06-30

Applicant: 杭州福斯特应用材料股份有限公司

Inventor： 朱薛妍 ,  李伟杰 ,  韩传龙 ,  傅明 ,  陈涛

IPC: G03F7/09 ,  H05K3/06

Abstract: 本发明属于电子材料技术领域。本发明公开了一种感光干膜抗蚀剂层压体，其包括：支撑层，包括第一面和第二面；抗蚀剂层，设于支撑层的第一面，抗蚀剂层包括抗蚀剂；第一面与抗蚀剂层之间具有第一剥离强度，第二面与抗蚀剂层之间具有第二剥离强度，第一剥离强度大于第二剥离强度；支撑层满足，第二面与抗蚀剂层剥离后，第二面上抗蚀剂的残留量小于等于0.01wt%。本发明采用不包含保护层的感光干膜抗蚀剂层压体，解决了保护层缺陷引起的抗蚀剂层质量问题，并且可以降低成本，缩减覆盖保护层工艺；本发明对支撑层远离抗蚀剂层的一面进行改性，使感光干膜抗蚀剂层压体进行收卷时抗蚀剂层不会发生粘连损坏，轻易地将抗蚀剂层从卷中释放开进行贴膜。