Patent search ap:("杭州电子科技大学") AND inv:"朱昊辰" Page 1

1.

发明公开
一种针对多层遮盖介质的亮温成像方法审中-实审

公开(公告)号：CN114254538A

公开(公告)日：2022-03-29

申请号：CN202111563069.1

申请日：2021-12-20

Applicant: 杭州电子科技大学

Inventor： 尹川 , 朱昊辰 , 张鹏泉 , 耿友林 , 张忠海 , 韦杜鹃

IPC: G06F30/23 , G06T17/20 , G01J5/48

Abstract: 本发明公开了一种针对多层遮盖介质的亮温成像方法。传统的透射模型未考虑真实透射中的全反射，在计算透射率选取的积分面积时，将整个下半球面加入计算，使得计算的透射率存在误差，从而影响了整个层次透射模拟成像的准确度。因此，本发明针对遮盖场景提出一种新型透射模型来得到更加精度的亮温矩阵。具体包括：一、在传统模型上提出符合实际透射特点的改进模型。二、研究了双基散射透射系数与透射角存在的关系。三、建立被探测区域内的亮温分布图。四、对传统模型与新模型的各项指标进行对比。本发明能够更为精确地得到针对遮盖场景的亮温图像，从而进一步增加了被动毫米波多层成像模拟的准确性，也能够减模拟成像的计算时间。

Patent Agency Ranking