一种印章去除方法和系统

    公开(公告)号:CN117351032B

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN202311388301.1

    申请日:2023-10-23

    Inventor: 丁宝进 夏鑫

    Abstract: 本说明书涉及图像处理领域,特别涉及一种印章去除方法和系统,该方法包括:获取待处理图像,待处理图像为包括印章的图像;基于待处理图像,通过印章去除模型,获取无印章预测图像和印章遮罩图像;无印章预测图像为去除印章后的图像;基于待处理图像和印章遮罩图像,生成保留图像;基于无印章预测图像和保留图像,确定目标图像。

    一种印章去除方法和系统
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117351032A

    公开(公告)日:2024-01-05

    申请号:CN202311388301.1

    申请日:2023-10-23

    Inventor: 丁宝进 夏鑫

    Abstract: 本说明书涉及图像处理领域,特别涉及一种印章去除方法和系统,该方法包括:获取待处理图像,待处理图像为包括印章的图像;基于待处理图像,通过印章去除模型,获取无印章预测图像和印章遮罩图像;无印章预测图像为去除印章后的图像;基于待处理图像和印章遮罩图像,生成保留图像;基于无印章预测图像和保留图像,确定目标图像。

Patent Agency Ranking