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公开(公告)号：CN112946906A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN202110326319.3
申请日：2021-03-26
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明提出一种用于DMD投影光刻的空间光强度匀化系统，为解决现有DMD投影光刻系统中目标面处的光场均匀性差、能量利用率低的问题。该系统包括由前自由曲面和后自由曲面集成在一个透镜上的结构；其设计方法包括以下步骤：建立空间坐标系；对前自由曲面和目标面进行划分，根据能量映射关系建立矢量坐标对应关系；对前自由曲面采用斯涅耳定律进行迭代求解，得到前自由曲面上所有点的坐标；将前自由曲面母线的所有出射单位向量作为后自由曲面的入射向量，结合斯涅耳定律和等光程边界条件进行迭代求解，得到后自由曲面的所有点的坐标；根据前后自由曲面的所有点坐标构建双自由曲面的截面结构，得到能够实现目标面处空间光强度匀化的系统。
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