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公开(公告)号：CN115857198B
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202211462245.7
申请日：2022-11-21
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本申请涉及一种光调制器件的光调控方法及装置。该方法包括：产生探测光束和调制光束，探测光束的波长与光调制器件中超表面的准BIC模式共振波长相匹配；将探测光束和调制光束以预设入射角度射入超表面；保持探测光束的光功率不变激发超表面进入与探测光束共振的所述准BIC模式，对调制光束的光功率进行增大，改变光调制器件的折射率，引起超表面在探测光入射下退出准BIC模式，进而改变超表面对探测光束的调控比。利用准‑BIC模式共振对折射率变化的灵敏性，实现对探测光束的光调控，光调控性能优良。且本申请的技术方案采用的是非接触式的光调制方式，光调制器件无需配置导线、电极来进行加热改变其折射率，能够缩小光调制器件的尺寸。
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公开(公告)号：CN115857198A
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202211462245.7
申请日：2022-11-21
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本申请涉及一种光调制器件的光调控方法及装置。该方法包括：产生探测光束和调制光束，探测光束的波长与光调制器件中超表面的准BIC模式共振波长相匹配；将探测光束和调制光束以预设入射角度射入超表面；保持探测光束的光功率不变激发超表面进入与探测光束共振的所述准BIC模式，对调制光束的光功率进行增大，改变光调制器件的折射率，引起超表面在探测光入射下退出准BIC模式，进而改变超表面对探测光束的调控比。利用准‑BIC模式共振对折射率变化的灵敏性，实现对探测光束的光调控，光调控性能优良。且本申请的技术方案采用的是非接触式的光调制方式，光调制器件无需配置导线、电极来进行加热改变其折射率，能够缩小光调制器件的尺寸。
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公开(公告)号：CN111668129A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN202010539311.0
申请日：2020-06-14
Applicant: 暨南大学
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明的光学定位成像方法，由于利用激发光束改变待测样品的折射率，让待测样品的响应光谱发生移动，进而使待测样品进入预设共振模式散射出响应光束，最后根据采集响应光束的散射信号并对其进行转换，完成对待测样品的二维图像构建，本申请基于的是非线性散射特性的光学定位成像技术，具有远场成像、高分辨率、高稳定性、无光漂白以及可逆性等优点；此外，由于本申请在光学定位成像的整体实施过程中并不会对待测样品有任何荧光标记处理，即不会让待测产品发生不可逆损伤，安全可靠性极高。
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公开(公告)号：CN111668129B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202010539311.0
申请日：2020-06-14
Applicant: 暨南大学
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明的无荧光标记的光学定位成像方法，由于利用激发光束改变待测样品的折射率，让待测样品的响应光谱发生移动，进而使待测样品进入预设共振模式散射出响应光束，最后根据采集响应光束的散射信号并对其进行转换，完成对待测样品的二维图像构建，本申请基于的是非线性散射特性的光学定位成像技术，具有远场成像、高分辨率、高稳定性、无光漂白以及可逆性等优点；此外，由于本申请在光学定位成像的整体实施过程中并不会对待测样品有任何荧光标记处理，即不会让待测产品发生不可逆损伤，安全可靠性极高。
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