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公开(公告)号：CN110057543A
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201910331365.5
申请日：2019-04-24
Applicant: 暨南大学
IPC: G01M11/00
Abstract: 本发明公开了一种基于同轴干涉的波面测量装置，包括用于产生干涉条纹场的马赫曾德双光束干涉系统、用于产生同轴干涉的合束元件、采集干涉信号的光探测器、以及用于扫描双光束干涉场的二维移动台和测量位移的激光干涉仪系统。其特点是在传统的马赫曾德双光束干涉仪中引入小尺寸合束元件，使两束相干光产生同轴干涉，通过二维扫描测量该干涉信号的周期变化，实现对马赫曾德双光束干涉场周期的高精度测量，从而推算出双光束波面的分布情况。利用小尺寸合束元件的扫描测量，该发明可以实现大尺寸波面的测量，而不需要相应尺寸的合束元件或参考波面。
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公开(公告)号：CN109283805A
公开(公告)日：2019-01-29
申请号：CN201811444399.7
申请日：2018-11-29
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明涉及一种基于达曼光栅激光直写装置。将STED超分辨引入到达曼光栅激光直写光路部分，充分利用STED超分辨成像，将激发光和损耗光的两种空间分布的光斑进行重叠，重叠区域荧光被猝灭，因此只有中心区域很小范围内才能够辐射荧光，实现了超分辨成像，可以产生一个更小的聚焦光斑，从而提高刻写密度，能够实现高密度光栅的刻写。在此基础上利用达曼光栅，可以一次直写多条光栅栅线，提高激光直写的直写并行度。本装置适用于刻写高密度、高精度的大尺寸衍射光学元件。
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公开(公告)号：CN112946802A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN202110171208.X
申请日：2021-02-08
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅，由上至下为光栅介质层和基底构成光栅结构；顶部的二维光栅结构为矩形柱状或圆柱结构。光栅介质层第一层材料为SiO2，光栅介质层第二层材料为HfO2、Ti2O5或Si3N4中的任意一种，基底材料与光栅介质层第一层材料相同也为SiO2。本发明的偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅在中心波长780纳米时，入射角为零时，两个偏振的‑1级衍射效率都高于24.694％，总透射效率为99.45％，零级效率仅为0.6％，且两个偏振态的效率偏振无关损耗为0.0014dB，实现了偏振无关入射的高效率衍射，同时制作容差大，易于制作。
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公开(公告)号：CN110132169A
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201910430146.2
申请日：2019-05-22
Applicant: 暨南大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种基于同轴干涉的波面测量系统，包括：马赫曾德双光束干涉光路、同轴干涉记录单元、二维移动平台、激光干涉仪单元及数据处理单元；待测光学元件设置在所述马赫曾德双光束干涉光路中，所述马赫曾德双光束干涉光路用于产生两束马赫曾德干涉光路，一路作为参考光，另一路作为测量光，其中测量光经过待测光学元件，所述同轴干涉记录单元设置在二维移动平台上，用于将两束马赫曾德干涉光路合路成同轴干涉信号，并记录同轴干涉信号的光强信息，本发明测量波面的尺寸和精度不再受限于分束镜的大小和表面质量，因此在大尺寸波面以及大尺寸光学元件面形测量中具有很好的应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109343162A
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201811445709.7
申请日：2018-11-29
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明涉及一种基于超透镜的激光直写装置及其激光直写方法。将超透镜置于直写基底之上，充分利用超透镜的超分辨成像，使得在超透镜的下表面及其近场范围内的距离可以形成高分辨的图像，缩小聚焦的光斑尺寸，从而提高刻写密度，能够实现高密度光栅的刻写。利用达曼光栅，可以一次直写多条光栅栅线，提高激光直写的直写并行度。本装置适用于刻写高密度、高精度的大尺寸衍射光学元件。
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公开(公告)号：CN112987511A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202110253890.7
申请日：2021-03-09
Applicant: 暨南大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于超透镜阵列的激光并行直写装置及方法，将超透镜阵列置于直写光路中，充分利用超透镜的超分辨成像，使得在超透镜的下表面及其近场范围内的距离可以形成高分辨的图像，缩小聚焦的光斑尺寸，从而提高刻写密度，能够实现高密度光栅的刻写。利用超透镜阵列，可以形成多点光斑，即一次直写多条光栅栅线，提高激光直写装置的直写并行度。本发明适用于刻写高密度、高精度的大尺寸衍射光学元件。
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公开(公告)号：CN110057543B
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201910331365.5
申请日：2019-04-24
Applicant: 暨南大学
IPC: G01M11/00
Abstract: 本发明公开了一种基于同轴干涉的波面测量装置，包括用于产生干涉条纹场的马赫曾德双光束干涉系统、用于产生同轴干涉的合束元件、采集干涉信号的光探测器、以及用于扫描双光束干涉场的二维移动台和测量位移的激光干涉仪系统。其特点是在传统的马赫曾德双光束干涉仪中引入小尺寸合束元件，使两束相干光产生同轴干涉，通过二维扫描测量该干涉信号的周期变化，实现对马赫曾德双光束干涉场周期的高精度测量，从而推算出双光束波面的分布情况。利用小尺寸合束元件的扫描测量，该发明可以实现大尺寸波面的测量，而不需要相应尺寸的合束元件或参考波面。
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公开(公告)号：CN109489579A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201811363911.5
申请日：2018-11-16
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明公开了一种基于高密度光栅的Sagnac偏振成像装置，其特征在于，包含第一光栅、第二光栅、Sagnac环；Sagnac环包含反射镜、偏振分束器、偏振片、成像透镜、CCD探测器；第一光栅位于偏振分束器透射光路上；第二光栅位于偏振分束器反射光路上；反射镜位于第一光栅的水平方向与第二光栅垂直方向的交叉处；偏振片位于第一光栅的下方；成像透镜位于偏振片的下方；CCD探测器位于成像透镜的下方；本发明采用的光栅为相同器件，保证了光束相互平行；不仅起到了消除衍射角，同时也起到了分光的作用；结构紧凑，效率极高，可以产生高分辨率、波段更宽的光谱，使该装置适用于高分辨率偏振光谱成像。
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公开(公告)号：CN109374259A
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201811318508.0
申请日：2018-11-07
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明公开了一种全息光栅周期高精度在线测量与调节装置，该装置包括用于产生并调节光栅场的双光束全息干涉光路，用于产生同轴干涉的参考光栅和采集干涉信号的光电探测器，以及用于扫描全息光栅场的一维高精度移动台和测量位移的激光干涉仪系统。其特点是在传统全息光路中引入参考光栅，使两束相干光产生同轴干涉，通过测量该干涉信号的周期变化，实现对全息光栅场的高精度在线测量，同时通过准直透镜的二维移动实现全息光栅周期的高精度在线调节。
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