公开(公告)号：CN117285254B

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202311276527.2

申请日：2023-10-03

Applicant: 景德镇陶瓷大学

Inventor： 董伟霞 ,  陈泽龙 ,  曹体浩 ,  包启富 ,  李萍 ,  李秉儒 ,  徐志坚

IPC: C03C8/20 ,  C03C8/04 ,  C04B41/86

Abstract: 本发明涉及一种纳米SiO2/TiO2自清洁陶瓷釉及其制备方法和应用方法，所述陶瓷釉的重量百分比组成为：粘土13.2～16.7wt%、硼分相熔块83.3～86.8wt%、外加氧化铝2～5wt%，按陶瓷釉配方进行配料、球磨、过筛、陈腐工序获得釉料，将釉料施在坯体表面，经干燥后置于窑炉内在氧化气氛下升温至1190～1210℃，然后经30～60 min将窑炉温度急冷至720～760℃，保温30～60 min后获得纳米SiO2/TiO2自清洁陶瓷釉。本发明采用高温原位一步法制备SiO2/TiO2超亲水自清洁陶瓷釉，该自清洁陶瓷釉在可见光下具有较好的耐污能力和抗菌效果，因此具有更广泛的实际应用前景。

公开(公告)号：CN117285254A

公开(公告)日：2023-12-26

申请号：CN202311276527.2

申请日：2023-10-03

Applicant: 景德镇陶瓷大学

Inventor： 董伟霞 ,  陈泽龙 ,  曹体浩 ,  包启富 ,  李萍 ,  李秉儒 ,  徐志坚

IPC: C03C8/20 ,  C03C8/04 ,  C04B41/86

Abstract: 本发明涉及一种纳米SiO2/TiO2自清洁陶瓷釉及其制备方法和应用方法，所述陶瓷釉的重量百分比组成为：粘土13.2～16.7wt%、硼分相熔块83.3～86.8wt%、外加氧化铝2～5wt%，按陶瓷釉配方进行配料、球磨、过筛、陈腐工序获得釉料，将釉料施在坯体表面，经干燥后置于窑炉内在氧化气氛下升温至1190～1210℃，然后经30～60 min将窑炉温度急冷至720～760℃，保温30～60 min后获得纳米SiO2/TiO2自清洁陶瓷釉。本发明采用高温原位一步法制备SiO2/TiO2超亲水自清洁陶瓷釉，该自清洁陶瓷釉在可见光下具有较好的耐污能力和抗菌效果，因此具有更广泛的实际应用前景。