公开(公告)号：CN103370347A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201180056522.8

申请日：2011-11-23

Applicant: 普罗米鲁斯有限责任公司 ,  住友电木株式会社

Inventor： 大治 ,  阳雄池田 ,  L·F·罗德斯 ,  P·坎达纳拉彻驰

IPC: C08F222/06 ,  C08F220/52 ,  C08F210/14 ,  G03F7/038

CPC classification number: G03F7/0382 ,  C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0395

Abstract: 聚合物和包含此种聚合物的形成可自成像膜的组合物，此种聚合物包含具有至少一个酚类官能团的降冰片烯型重复单元和马来酸酐型重复单元，其可以配制为正色调成像或负色调成像。据此形成的膜可用作微电子器件，例如半导体，和光电子器件制造中的可自成像层。

公开(公告)号：CN103370347B

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201180056522.8

申请日：2011-11-23

Applicant: 普罗米鲁斯有限责任公司 ,  住友电木株式会社

Inventor： 大治 ,  阳雄池田 ,  L·F·罗德斯 ,  P·坎达纳拉彻驰

IPC: C08F222/06 ,  C08F220/52 ,  C08F210/14 ,  G03F7/038

CPC classification number: G03F7/0382 ,  C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0395

Abstract: 聚合物和包含此种聚合物的形成可自成像膜的组合物，此种聚合物包含具有至少一个酚类官能团的降冰片烯型重复单元和马来酸酐型重复单元，其可以配制为正色调成像或负色调成像。据此形成的膜可用作微电子器件，例如半导体，和光电子器件制造中的可自成像层。